Šiame straipsnyje pirmiausia pristatoma TAC molekulinė struktūra ir fizinės savybės, daugiausia dėmesio skiriama sukepinto tantalum karbido ir CVD tantalo karbido skirtumams ir pritaikymui, taip pat „VEK“ puslaidininkių populiariems TAC dangos gaminiams.
Šiame straipsnyje pristatomos CVD TAC dangos produkto charakteristikos, CVD TAC dangos paruošimo procesas naudojant CVD metodą ir pagrindinį paruoštos CVD TAC dangos paviršiaus morfologijos aptikimo metodą.
Šiame straipsnyje pristatomos TAC dangos produkto charakteristikos, specifinis TAC dangos gaminių paruošimo procesas naudojant CVD procesą ir pristatoma populiariausia „Vetek Semiconductor“ TAC danga.
Šiame straipsnyje analizuojamos priežastys, kodėl SIC padengia pagrindinę pagrindinę SiC epitaksinio augimo medžiagą ir sutelkia dėmesį į specifinius SiC dangos pranašumus puslaidininkių pramonėje.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy