Produktai

Paviršiaus apdorojimo technologija

Puslaidininkių gamyboje paviršiaus apdorojimo technologija atlieka itin svarbų vaidmenį didinant komponentų ilgaamžiškumą, veikimą ir patikimumą, keičiant jų paviršiaus savybes pažangiais dengimo ir nusodinimo metodais.

Fizinis nusodinimas iš garų (PVD)

Fizinis nusodinimas iš garų PVD yra vakuuminis dengimo procesas, kurio metu ant pagrindo nusodinamos plonos plėvelės garinant kietas medžiagas. Jis padidina paviršiaus kietumą, šiluminę varžą ir laidumą, todėl yra būtinas puslaidininkiniams įrankiams ir tiksliams komponentams.

Puslaidininkinio terminio purškimo technologija

Šis metodas apima smulkių miltelių purškimą aukštoje temperatūroje ant paviršių, kad būtų sukurta tanki, apsauginė danga. Jis žymiai padidina kritinių puslaidininkių komponentų, veikiamų atšiaurioje aplinkoje, atsparumą karščiui, dilimui ir korozijai.

MAX fazės nanomilteliai

MAX Phase nanomilteliai yra sluoksniuota keramika su metalinėmis savybėmis, pasižyminti dideliu stiprumu, laidumu ir atsparumu šiluminiam smūgiui. Jie idealiai tinka apsauginėms dangoms ir naujiems puslaidininkiams, kuriems reikalingas stabilumas aukštoje temperatūroje.


Pagrindinės savybės

  • PVD vakuuminė danga: didelio tikslumo plonos plėvelės, turinčios puikų kietumą, šiluminę varžą, laidumą ir stiprią sukibimą.
  • Terminis purškimas: tankios apsauginės dangos, kurių storis reguliuojamas, aukštas atsparumas karščiui/dėvėjimuisi/korozijai atšiaurioms aplinkoms.
  • MAX Phase nanomilteliai: sluoksniuota keramika, jungianti metalines ir keramines savybes – didelį stiprumą, laidumą ir atsparumą šiluminiam smūgiui.
  • CMP poliravimo srutos: cheminis-mechaninis planarizavimas, kad puslaidininkių paviršius būtų lygus nano lygmeniu ir tikslus apdorojimas.
  • Į taikymą orientuoti puslaidininkinių įrankių, MLCC sukepinimo tiglių, proceso komponentų ir naujos aukštos temperatūros elektronikos sprendimai.


Programos

Siekdama patenkinti įvairius puslaidininkių ir tikslios gamybos poreikius, „VeTek“ siūlo tikslinius paviršiaus apdorojimo technologijų sprendimus. Šioje lentelėje jie klasifikuojami pagal pagrindines technologijas ir taikymo sritis:

Technologijos / Laukas Tipiniai produktai / sprendimai Programos aprašymas
Fizinis nusodinimas iš garų (PVD) PVD plonasluoksnės dangos įrankiams ir tikslioms detalėms Vakuuminis plonų plėvelių nusodinimas, siekiant padidinti puslaidininkinių įrankių ir didelio tikslumo dalių paviršiaus kietumą, šiluminę varžą ir laidumą.
Puslaidininkinis terminis purškimas Termiškai purškiamos dangos, MLCC sukepinimo tiglio dangos Miltelių purškimas aukštoje temperatūroje, kad susidarytų tankios apsauginės dangos, atsparios karščiui, dilimui ir korozijai; plačiai naudojamas puslaidininkių komponentams ir MLCC medžiagų sukepinimo tigliams.
MAX fazės medžiagos MAX Phase nanomilteliai Sluoksniuota keramika su metalinėmis savybėmis, skirta apsauginėms dangoms ir naujiems puslaidininkiams, kuriems reikalingas didelis stiprumas, laidumas ir atsparumas šiluminiam smūgiui.
CMP / Planarizacija CMP poliravimo srutos Cheminės-mechaninės poliravimo medžiagos, skirtos nanolygio paviršiaus plokštumui ir kokybei puslaidininkių gamyboje ir preciziškame medžiagų apdirbime.
Komponentų apsauga ir tarnavimo laikas PVD ir terminio purškimo apsauginės dangos Svarbių puslaidininkinės įrangos dalių paviršiaus modifikavimas, siekiant pagerinti ilgaamžiškumą, sumažinti susidėvėjimą ir pailginti tarnavimo laiką atšiaurioje proceso aplinkoje.

Norėdami sužinoti daugiau susijusių dangų ir medžiagų sprendimų, žrTantalo karbido dangairSilicio karbido dangapuslapių.


Kaip profesionalus paviršiaus apdorojimo technologijų gamintojas ir tiekėjas Kinijoje, turime savo gamyklą. Nesvarbu, ar jums reikia pritaikytų paslaugų, kurios atitiktų specifinius jūsų regiono poreikius, ar norite įsigyti pažangią ir patvarią paviršiaus apdorojimo technologiją, pagamintą Kinijoje, galitepalik mums žinutę.


View as  
 
CMP poliravimo srutos

CMP poliravimo srutos

CMP poliravimo srutos (Chemical Mechanical Polishing Slurry) yra aukštos kokybės medžiaga, naudojama puslaidininkių gamyboje ir tiksliam medžiagų apdorojimui. Jo pagrindinė funkcija yra pasiekti smulkų medžiagos paviršiaus lygumą ir poliravimą, veikiant cheminės korozijos ir mechaninio šlifavimo sinergetiniam poveikiui, kad būtų patenkinti plokštumo ir paviršiaus kokybės reikalavimai nano lygiu. Laukiu tolesnės konsultacijos.
Fizinis garų nusėdimas

Fizinis garų nusėdimas

VETEK puslaidininkių fizinio garų nusėdimas (PVD) yra pažangi proceso technologija, plačiai naudojama paviršiaus apdorojimui ir plonam plėvelės paruošimui. PVD technologija naudoja fizinius metodus, kad tiesiogiai transformuotų medžiagas iš kietos ar skysčio į dujas ir suformuotų ploną plėvelę ant tikslinio substrato paviršiaus. Ši technologija turi aukšto tikslumo, didelio vienodumo ir stiprio sukibimo pranašumus, ji yra plačiai naudojama puslaidininkiuose, optiniuose prietaisuose, įrankių dangose ​​ir dekoratyvinėse dangose. Sveiki atvykę diskutuoti su mumis!
Terminio purškimo technologijos MLCC kondensatorius

Terminio purškimo technologijos MLCC kondensatorius

„Vetek Semiconductor“ terminio purškimo technologija atlieka itin svarbų vaidmenį dengiant sukepintus tiglius aukštos klasės daugiasluoksniams keraminiams kondensatoriams (MLCC). Dėl nuolatinio elektroninių prietaisų miniatiūravimo ir didelio našumo, terminio purškimo technologijos MLCC kondensatorių poreikis taip pat sparčiai auga, ypač naudojant aukščiausios klasės įrenginius. Nekantraujame su jumis sukurti ilgalaikį verslą.
Puslaidininkių šiluminio purškimo technologija

Puslaidininkių šiluminio purškimo technologija

„Vetek Semiconductor Semiconductor“ terminio purškimo technologija yra pažangus procesas, kurio metu išlydytos arba pusiau išlydytos medžiagos purškiamos ant pagrindo paviršiaus, kad susidarytų danga. Ši technologija plačiai naudojama puslaidininkių gamyboje, daugiausia naudojama kuriant dangas, turinčias pagrindo paviršiaus specifines funkcijas, tokias kaip laidumas, izoliacija, atsparumas korozijai ir atsparumas oksidacijai. Pagrindiniai terminio purškimo technologijos pranašumai yra didelis efektyvumas, reguliuojamas dangos storis ir geras dangos sukibimas, todėl ji ypač svarbi puslaidininkių gamybos procese, reikalaujančiame didelio tikslumo ir patikimumo. Laukiame jūsų užklausos.
„Max“ fazės nanopowder

„Max“ fazės nanopowder

„Veteksemi“ puslaidininkių maksimalios fazės nanopowder siūlo išskirtines šilumines ir elektrines savybes, idealiai tinkančias pažangiai elektronikai ir medžiagų mokslui. Esant didesniam atsparumui oksidacijai ir stabilumui aukšta temperatūrai, „Veteksemi“ nanopowder yra puikus sprendimas novatoriškoms puslaidininkių technologijoms.
Kaip profesionalus Paviršiaus apdorojimo technologija gamintojas ir tiekėjas Kinijoje, turime savo gamyklą. Nesvarbu, ar jums reikia pritaikytų paslaugų, kurios atitiktų konkrečius jūsų regiono poreikius, ar norite įsigyti pažangių ir patvarių Paviršiaus apdorojimo technologija, pagamintų Kinijoje, galite palikti mums pranešimą.
X
Naudojame slapukus siekdami pasiūlyti geresnę naršymo patirtį, analizuoti svetainės srautą ir suasmeninti turinį. Naudodamiesi šia svetaine sutinkate su mūsų slapukų naudojimu. Privatumo politika
AtmestiPriimti