Silicio nitridas

1. Puikus cheminis stabilumas

Silicio nitridų keramika turi puikų cheminį stabilumą ir gali atlaikyti įvairias stiprias rūgštis, šarvus ir ėsdinančias dujas. Puslaidininkių gamybos procese dažnai reikia kovoti su korozinėmis cheminėmis medžiagomis, silicio nitridų keramika gali suteikti ilgalaikę stabilią našumo garantiją.

2. Puikios mechaninės savybės

Silicio nitridų keramika turi didelį kietumą, puikų gniuždymo stiprumą ir atsparumą dilimui, gali atlaikyti mechaninį įtempį ir paviršiaus nusidėvėjimą, nesunkiai deformuoti ar plyšti. Ši mechaninė savybė daro ją labai tinkama kaip medžiaga konstrukcinėms ir proceso dalims puslaidininkių įrangoje.

3. Aukštos temperatūros stabilumas

Silicio nitridų keramika gali išlaikyti stabilumą aukštos temperatūros aplinkoje, nėra lengva sušvelninti ar tirpdyti ir atlaikyti aukštos temperatūros perdirbimą ir tvarkymą puslaidininkių gamybos procese. Tai leidžia jį naudoti gaminant aukštos temperatūros proceso įrangos pagrindinius komponentus, tokius kaip griebtuvai, reakcijos kameros komponentai ir pan.

4. Puikios izoliacinės savybės

Izoliacinės savybės yra labai svarbios puslaidininkių prietaisų gamyboje. Silicio nitridų keramika pasižymi geromis izoliacinėmis savybėmis, kurios gali efektyviai išskirti ir apsaugoti grandinės komponentus nuo srovės nuotėkio ar elektromagnetinių trukdžių, padedančių pagerinti prietaiso stabilumą ir patikimumą.

5. Šilumos laidumas ir šilumos laidumas

Silicio nitridų keramika turi didelį šilumos laidumą, gali efektyviai atlikti ir išsklaidyti įrenginio sukeltą šilumą, padedant palaikyti prietaiso temperatūros stabilumą veikimo procese. Tai labai svarbu, kad būtų galima naudoti aukštos kokybės puslaidininkių įrenginius.

1. Elektrostatiniai griebtukai ir ėsdinimo kameros komponentai

Silicio nitridų keramika dažnai naudojama kaip medžiagos elektrostatiniams griebėjimams ir ėsdinimo kamerų komponentams puslaidininkių gamyboje dėl puikaus cheminio stabilumo ir aukštos temperatūros atsparumo. Elektrostatiniai griebtuvai naudojami vafliams ar substratams pritvirtinti ir stabilizuoti, o ėsdinimo kameros komponentai naudojami atlaikyti korozines dujas ir aukštos temperatūros aplinką.

2. Dujų paskirstymo plokštelės ir atšvaitai

Silicio nitrido keramika taip pat naudojama gaminant puslaidininkių įrangą dujų paskirstymo plokštelėse ir atšvaituose. Dujų pasiskirstymo plokštelės naudojamos vienodai paskirstyti reaktyvias ar apsaugines dujas į reakcijos kamerą, o atšvaitai naudojami siekiant optimizuoti šviesos pasiskirstymą ir atspindį reakcijos kameroje, siekiant pagerinti reakcijos efektyvumą ir vienodumą.

3. Laikikliai ir šiluminiai komponentai

Silicio nitridų keramika dažnai naudojama kaip laikikliai ir šiluminio valdymo komponentai puslaidininkių gamybos įrangoje. Šie komponentai turi turėti gerą mechaninį stiprumą, atsparumą nusidėvėjimui ir šilumos laidumui, kad būtų užtikrintas stabilios įrangos veikimo ir prietaisų apdorojimo tikslumas.

4. Cheminis mechaninis poliravimo (CMP) trinkelės

Silicio nitridų keramika yra plačiai naudojama kaip trinkelės medžiaga cheminio mechaninio poliravimo (CMP) procese. Jis turi puikų atsparumą plokščiumui ir nusidėvėjimui ir gali užtikrinti stabilią atramą poliravimo proceso metu, kad būtų užtikrintas puslaidininkio vaflinio paviršiaus lygumas ir tikslumas.