Pagalbos tarnyba

„VeTek Semiconductor“ tiekia aukštos kokybės aliuminio nitrido (AlN) vieno kristalo plokšteles ir substratus naujos kartos itin plataus diapazono puslaidininkiniams įrenginiams. Itin platus, maždaug 6,2 eV dažnių juostos tarpas, išskirtinis šilumos laidumas, išskirtinė elektros izoliacija ir puikus gardelės bei šiluminio plėtimosi suderinimas su GaN, AlN plokštelės idealiai tinka didelės galios RF įrenginiams, aukštos įtampos galios elektronikai ir giliosios ultravioletinės (DUV) optoelektronikai.

VETEK profesionali CVD SiC padengtų grafito dalių valymo paslauga yra specializuota techninė paslauga, skirta Aixtron / Veeco MOCVD įrangos susceptoriams ir grafito komponentams, naudojamiems GaN / AlN / AlGaN epitaksiniuose procesuose. Mūsų patentuotas valymo procesas visiškai pašalina paviršiaus atminties efektą, atkuria stabilų dujų srautą reaktoriuje ir griežtai apsaugo 100 µm CVD SiC dangą su absoliučiu nuliniu storio nuostoliu ir nuliu metalo likučiais.

Didėjant didelio jautrumo ir mažos galios MEMS keitiklių paklausai plečiantis 5G ryšiui, tiksliams medicinos prietaisams ir išmaniesiems nešiojamiesiems įrenginiams, mūsų PZT on Si/SOI plokštelės yra svarbus medžiagos sprendimas. Naudodami pažangius plonasluoksnio nusodinimo procesus, tokius kaip Sol-gel arba purškimas, pasiekiame išskirtinę konsistenciją ir puikias pjezoelektrines savybes ant silicio pagrindo. Šios plokštelės yra pagrindinė elektromechaninės energijos konversijos šerdis.

Silicio karbido kristalų auginimas yra pagrindinis didelio našumo puslaidininkinių prietaisų gamybos procesas. Kristalų auginimo įrangos stabilumas, tikslumas ir suderinamumas tiesiogiai lemia silicio karbido luitų kokybę ir išeigą. Remdamasi fizinio garų transportavimo (PVT) technologijos savybėmis, Veteksemi sukūrė atsparumo šildymo krosnį, skirtą silicio karbido kristalų auginimui, leidžiančią stabiliai augti 6 colių, 8 colių ir 12 colių silicio karbido kristalus, visiškai suderinamus su laidžiomis, pusiau izoliacinėmis ir N tipo medžiagų sistemomis. Tiksliai valdydamas temperatūrą, slėgį ir galią, jis veiksmingai sumažina kristalų defektus, tokius kaip EPD (Etch Pit Density) ir BPD (bazinės plokštumos dislokacija), kartu pasižymi mažu energijos suvartojimu ir kompaktišku dizainu, atitinkančiu aukštus pramoninės didelio masto gamybos standartus.

CMP poliravimo srutos (Chemical Mechanical Polishing Slurry) yra aukštos kokybės medžiaga, naudojama puslaidininkių gamyboje ir tiksliam medžiagų apdorojimui. Jo pagrindinė funkcija yra pasiekti smulkų medžiagos paviršiaus lygumą ir poliravimą, veikiant cheminės korozijos ir mechaninio šlifavimo sinergetiniam poveikiui, kad būtų patenkinti plokštumo ir paviršiaus kokybės reikalavimai nano lygiu. Laukiu tolesnės konsultacijos.

„Vetek“ puslaidininkių CVD CVD SiC dangos manekeno vaflių „Vetek“, kaip pirmaujantys Kinijos sic vaflių gamintojai ir tiekėjai, yra specializuota puslaidininkių gamybos įrankis, daugiausia naudojamas silicio vaflių bandymo ir vaflių bandymo procesui. Laukiami tolesni jūsų užklausos.