„VeTek Semiconductor“ turi pranašumą ir patirtį gaminant MOCVD technologijos atsargines dalis.
MOCVD, pilnas metalo organinio cheminio garų nusodinimo (metal-organic Chemical Vapor Deposition) pavadinimas, taip pat gali būti vadinamas metalo-organinės garų fazės epitaksija. Organometaliniai junginiai yra junginių su metalo-anglies jungtimis klasė. Šiuose junginiuose yra bent viena cheminė jungtis tarp metalo ir anglies atomo. Metalo-organiniai junginiai dažnai naudojami kaip pirmtakai ir įvairiais nusodinimo būdais ant pagrindo gali sudaryti plonas plėveles arba nanostruktūras.
Metalo-organinis cheminis nusodinimas garais (MOCVD technologija) yra įprasta epitaksinio augimo technologija, MOCVD technologija plačiai naudojama puslaidininkinių lazerių ir šviesos diodų gamyboje. Ypač gaminant šviesos diodus, MOCVD yra pagrindinė galio nitrido (GaN) ir susijusių medžiagų gamybos technologija.
Yra dvi pagrindinės epitaksijos formos: skystosios fazės epitaksijos (LPE) ir garų fazės epitaksijos (VPE). Dujų fazės epitaksiją galima dar suskirstyti į metalo ir organinio cheminio nusodinimo garais (MOCVD) ir molekulinio pluošto epitaksiją (MBE).
Užsienio įrangos gamintojams daugiausia atstovauja Aixtron ir Veeco. MOCVD sistema yra viena iš pagrindinių lazerių, šviesos diodų, fotoelektrinių komponentų, galios, RF prietaisų ir saulės elementų gamybos įrangos.
Pagrindinės mūsų įmonės gaminamų MOCVD technologijos atsarginių dalių savybės:
1) Didelis tankis ir pilna kapsuliacija: visa grafito bazė yra aukštoje temperatūroje ir korozijoje, paviršius turi būti visiškai apvyniotas, o danga turi būti gerai sutankinta, kad atliktų gerą apsauginį vaidmenį.
2) Geras paviršiaus plokštumas: Kadangi grafito pagrindui, naudojamam monokristalų auginimui, reikalingas labai didelis paviršiaus lygumas, po dangos paruošimo reikia išlaikyti pradinį pagrindo lygumą, tai yra, dangos sluoksnis turi būti vienodas.
3) Geras sukibimo stiprumas: sumažinkite grafito pagrindo ir dangos medžiagos šiluminio plėtimosi koeficiento skirtumą, o tai gali veiksmingai pagerinti sukibimo stiprumą tarp dviejų, o dangą nesunku įtrūkti patyrus aukštą ir žemą temperatūrą. ciklas.
4) Didelis šilumos laidumas: aukštos kokybės drožlių augimui reikia, kad grafito pagrindas užtikrintų greitą ir vienodą šilumą, todėl dangos medžiaga turi turėti didelį šilumos laidumą.
5) Aukšta lydymosi temperatūra, atsparumas oksidacijai aukštoje temperatūroje, atsparumas korozijai: danga turi stabiliai veikti aukštoje temperatūroje ir korozinėje darbo aplinkoje.
VETEK MOCVD SiC Coated Susceptor yra tiksliai sukurtas nešiklio sprendimas, specialiai sukurtas LED ir sudėtinių puslaidininkių epitaksiniam augimui. Jis demonstruoja išskirtinį šiluminį vienodumą ir cheminį inertiškumą sudėtingose MOCVD aplinkose. Naudodami griežtą VETEK CVD nusodinimo procesą, esame įsipareigoję pagerinti plokštelių augimo nuoseklumą ir pailginti pagrindinių komponentų tarnavimo laiką, užtikrindami stabilų ir patikimą kiekvienos jūsų puslaidininkių gamybos partijos veikimo užtikrinimą.
Mūsų SIC padengtas planetinis jautrininkas yra pagrindinis puslaidininkių gamybos aukštos temperatūros proceso komponentas. Jo dizainas sujungia grafito substratą su silicio karbido danga, kad būtų galima išsamiai optimizuoti šiluminio valdymo efektyvumą, cheminį stabilumą ir mechaninį stiprumą.
SIC padengtas giluminio UV LED 2 -ojo stoties, skirtas MOCVD procesui, siekiant palaikyti efektyvų ir stabilų giliųjų UV LED epitaksinio sluoksnio augimą. „Vetek Semiconductor“ yra pirmaujanti SIC dengto giliųjų UV LED 2 -ojo LED recepto gamintojas ir tiekėjas Kinijoje. Mes turime turtingą patirtį ir užmezgėme ilgalaikius bendradarbiavimo ryšius su daugybe LED epitaksinių gamintojų. Mes esame geriausi LEDS „Streceptor“ produktų gamintojai. Po daugelio metų patikrinimo mūsų produktų gyvenimo trukmė yra lygiaverčiai aukščiausiems tarptautiniams gamintojams. Laukiu jūsų užklausos.
„Vetek Semiconductor“ LED epitaksijos suvokėjas yra skirtas mėlynai ir žaliai LED epitaksinei gamybai. Jis sujungia silicio karbido dangą ir SGL grafitą ir turi didelį kietumą, žemą šiurkštumą, gerą šiluminį stabilumą ir puikų cheminį stabilumą. „LED Epitaxy“ jautrumas yra vienas iš geriausių „Vetek Semiconductor“ produktų. Mes laukiame jūsų užklausos.
„Vetek Semiconductor“ „Veeco“ LED EPI jautrumas yra skirtas epitaksiniam raudonųjų ir geltonųjų šviesos diodų augimui. Pažangios medžiagos ir CVD SIC dangos technologija užtikrina jautrumo šiluminį stabilumą, todėl temperatūros lauko vienoda augimo metu auga, sumažina kristalų defektus ir pagerina epitaksinių vaflių kokybę ir konsistenciją. Jis suderinamas su „VeEco“ epitaksialine augimo įranga ir gali būti sklandžiai integruota į gamybos liniją. Tikslus dizainas ir patikimas našumas padeda pagerinti efektyvumą ir sumažinti išlaidas. Laukiu jūsų užklausų.
„Vetek“ puslaidininkinis sic dengtas grafito statinės suvokėjas yra aukštos kokybės vaflių dėklas, skirtas puslaidininkių epitaksijos procesams, siūlančiam puikų šilumos laidumą, aukštą temperatūrą ir cheminį atsparumą, didelio grynumo paviršių ir pritaikomus galimybes padidinti gamybos efektyvumą. Sveiki atvykę į tolesnį tyrimą.
Kaip profesionalus MOCVD technologija gamintojas ir tiekėjas Kinijoje, mes turime savo gamyklą. Nesvarbu, ar jums reikia pritaikytų paslaugų, kad patenkintumėte specifinius jūsų regiono poreikius, ar norite nusipirkti pažangų ir patvarų MOCVD technologija, pagamintą Kinijoje, galite palikti mums pranešimą.
Naudojame slapukus siekdami pasiūlyti geresnę naršymo patirtį, analizuoti svetainės srautą ir suasmeninti turinį. Naudodamiesi šia svetaine sutinkate su mūsų slapukų naudojimu.
Privatumo politika
