Produktai

Silicio karbido danga

VeTek Semiconductor specializuojasi ypač grynų silicio karbido dangų gaminių gamyboje, šios dangos skirtos dengti išgrynintam grafitui, keramikai ir ugniai atspariems metalo komponentams.


Mūsų didelio grynumo dangos pirmiausia skirtos naudoti puslaidininkių ir elektronikos pramonėje. Jie tarnauja kaip apsauginis sluoksnis plokštelių laikikliams, susceptoriams ir kaitinimo elementams, apsaugant juos nuo korozinės ir reaktyvios aplinkos, atsirandančios tokiuose procesuose kaip MOCVD ir EPI. Šie procesai yra neatsiejami nuo plokštelių apdorojimo ir prietaisų gamybos. Be to, mūsų dangos puikiai tinka naudoti vakuuminėse krosnyse ir mėginių šildymui, kur susiduriama su didelio vakuumo, reaktyviosios ir deguonies aplinka.


„VeTek Semiconductor“ siūlo visapusišką sprendimą su mūsų pažangiomis mašinų parduotuvės galimybėmis. Tai leidžia mums gaminti pagrindinius komponentus naudojant grafitą, keramiką ar ugniai atsparius metalus, o SiC arba TaC keramines dangas dengti patys. Taip pat teikiame klientų tiekiamų dalių dengimo paslaugas, užtikriname lankstumą, kad atitiktų įvairius poreikius.


Mūsų silicio karbido dangos gaminiai yra plačiai naudojami Si epitaksijoje, SiC epitaksijoje, MOCVD sistemoje, RTP / RTA procese, ėsdinimo procese, ICP / PSS ėsdinimo procese, įvairių tipų šviesos diodų procese, įskaitant mėlyną ir žalią LED, UV LED ir giliai UV. LED ir kt., kuris pritaikytas LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI ir pan.


Mes galime pagaminti reaktoriaus dalis:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Silicio karbido danga turi keletą unikalių privalumų:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



„VeTek“ puslaidininkinės silicio karbido dangos parametras

Pagrindinės fizinės CVD SiC dangos savybės
Turtas Tipinė vertė
Kristalinė struktūra FCC β fazės polikristalinė, daugiausia (111) orientuota
SiC danga Tankis 3,21 g/cm³
SiC danga Kietumas 2500 Vickers kietumas (500 g apkrova)
grūdų dydis 2 ~ 10 μm
Cheminis grynumas 99,99995 %
Šilumos talpa 640 J·kg-1·K-1
Sublimacijos temperatūra 2700 ℃
Lankstumo stiprumas 415 MPa RT 4 taškų
Youngo modulis 430 Gpa 4pt lenkimas, 1300 ℃
Šilumos laidumas 300 W · m-1·K-1
Šiluminė plėtra (CTE) 4,5×10-6K-1

CVD SIC PLĖVELĖS KRISTALO STRUKTŪRA

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



View as  
 
SiC dengta epitaksinė reaktoriaus kamera

SiC dengta epitaksinė reaktoriaus kamera

Veteksemicon SiC padengta epitaksinio reaktoriaus kamera yra pagrindinis komponentas, skirtas sudėtingiems puslaidininkių epitaksinio augimo procesams. Naudojant pažangų cheminį nusodinimą iš garų (CVD), šis produktas sudaro tankią, labai gryną SiC dangą ant didelio stiprumo grafito pagrindo, todėl užtikrina puikų stabilumą aukštoje temperatūroje ir atsparumą korozijai. Jis veiksmingai atsparus koroziniam reaguojančių dujų poveikiui aukštos temperatūros proceso aplinkoje, žymiai sumažina užterštumą kietosiomis dalelėmis, užtikrina pastovią epitaksinės medžiagos kokybę ir didelį derlių bei žymiai pailgina reakcijos kameros priežiūros ciklą ir tarnavimo laiką. Tai pagrindinis pasirinkimas siekiant pagerinti plataus dažnių juostos puslaidininkių, tokių kaip SiC ir GaN, gamybos efektyvumą ir patikimumą.
EPI imtuvo dalys

EPI imtuvo dalys

Pagrindiniame silicio karbido epitaksinio augimo procese Veteksemicon supranta, kad susceptoriaus veikimas tiesiogiai lemia epitaksinio sluoksnio kokybę ir gamybos efektyvumą. Mūsų didelio grynumo EPI susceptoriai, sukurti specialiai SiC laukui, naudoja specialų grafito substratą ir tankią CVD SiC dangą. Dėl puikaus šiluminio stabilumo, puikaus atsparumo korozijai ir ypač mažo dalelių susidarymo greičio jie užtikrina neprilygstamą storį ir dopingo vienodumą klientams net ir atšiaurioje aukštos temperatūros proceso aplinkoje. Veteksemicon pasirinkimas reiškia pažangių puslaidininkių gamybos procesų patikimumo ir našumo kertinį akmenį.
SiC dengtas grafito susceptorius ASM

SiC dengtas grafito susceptorius ASM

Veteksemicon SiC padengtas grafito susceptorius, skirtas ASM, yra pagrindinis nešiklio komponentas puslaidininkių epitaksiniuose procesuose. Šiame produkte naudojama mūsų patentuota pirolitinio silicio karbido dengimo technologija ir tikslūs apdirbimo procesai, užtikrinantys puikų našumą ir itin ilgą tarnavimo laiką aukštos temperatūros ir korozinių procesų aplinkoje. Mes puikiai suprantame griežtus epitaksinių procesų reikalavimus, susijusius su substrato grynumu, terminiu stabilumu ir nuoseklumu, ir esame įsipareigoję klientams teikti stabilius, patikimus sprendimus, kurie pagerintų bendrą įrangos veikimą.
Silicio karbido fokusavimo žiedas

Silicio karbido fokusavimo žiedas

Veteksemicon fokusavimo žiedas sukurtas specialiai reikliems puslaidininkių ėsdinimo įrenginiams, ypač SiC ėsdinimo programoms. Sumontuotas aplink elektrostatinį griebtuvą (ESC), arti plokštelės, jo pagrindinė funkcija yra optimizuoti elektromagnetinio lauko pasiskirstymą reakcijos kameroje, užtikrinant vienodą ir sutelktą plazmos veikimą visame plokštelės paviršiuje. Didelio našumo fokusavimo žiedas žymiai pagerina ėsdinimo greičio vienodumą ir sumažina krašto poveikį, tiesiogiai padidindamas produkto išeigą ir gamybos efektyvumą.
Silicio karbido laikiklio plokštė, skirta LED ėsdinimui

Silicio karbido laikiklio plokštė, skirta LED ėsdinimui

Veteksemicon Silicio karbido laikiklio plokštelė, skirta LED ėsdinimui, specialiai sukurta LED lustų gamybai, yra pagrindinė ėsdinimo proceso dalis. Pagaminta iš tiksliai sukepinto didelio grynumo silicio karbido, jis pasižymi išskirtiniu cheminiu atsparumu ir matmenų stabilumu aukštoje temperatūroje, efektyviai atsparus stiprių rūgščių, bazių ir plazmos korozijai. Mažos užterštumo savybės užtikrina didelį LED epitaksinių plokštelių derlių, o ilgaamžiškumas, gerokai didesnis nei tradicinių medžiagų, padeda klientams sumažinti bendras eksploatavimo išlaidas, todėl tai yra patikimas pasirinkimas norint pagerinti ėsdinimo proceso efektyvumą ir nuoseklumą.
Kieto SiC fokusavimo žiedas

Kieto SiC fokusavimo žiedas

Veteksemi kieto SiC fokusavimo žiedas žymiai pagerina ėsdinimo vienodumą ir proceso stabilumą, tiksliai valdydamas elektrinį lauką ir oro srautą plokštelės krašte. Jis plačiai naudojamas silicio, dielektrikų ir sudėtinių puslaidininkinių medžiagų precizinio ėsdinimo procesuose ir yra pagrindinis komponentas, užtikrinantis masinės gamybos našumą ir ilgalaikį patikimą įrangos veikimą.
Kaip profesionalus Silicio karbido danga gamintojas ir tiekėjas Kinijoje, mes turime savo gamyklą. Nesvarbu, ar jums reikia pritaikytų paslaugų, kad patenkintumėte specifinius jūsų regiono poreikius, ar norite nusipirkti pažangų ir patvarų Silicio karbido danga, pagamintą Kinijoje, galite palikti mums pranešimą.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept