Silicio karbido danga

„Veteksemicon“ didelio grynumo siC kraštų žiedai, specialiai sukurti puslaidininkių ėsdinimui

Kaip pagrindinis kinų gamintojas ir silicio karbido dengimo produktų tiekėjas, „Veteksemicon“ dengtas vaflių laikiklis, skirtas ofortui, vaidina nepakeičiamą pagrindinį vaidmenį ėsdinimo procese, pasižymintis puikiu aukštos temperatūros stabilumu, išskirtiniu atsparumu korozijai ir dideliam šilumos laidumui.

„Veteksemicon“ CVD SIC dengtas vaflių jautrumas yra pažangiausias puslaidininkių epitaksinių procesų sprendimas, siūlantis ypač aukštą grynumą (≤100PPB, ICP-E10 sertifikuotą) ir išskirtinius terminius/cheminius stabilumus, skirtus užteršti GAN, SIC ir Silikono EPI-sluoksnių augimą. Integruotas naudojant tikslią CVD technologiją, ji palaiko 6 ”/8”/12 ”vaflius, užtikrina minimalų šiluminį įtempį ir atlaiko ekstremalią temperatūrą iki 1600 ° C.

Mūsų SIC padengtas planetinis jautrininkas yra pagrindinis puslaidininkių gamybos aukštos temperatūros proceso komponentas. Jo dizainas sujungia grafito substratą su silicio karbido danga, kad būtų galima išsamiai optimizuoti šiluminio valdymo efektyvumą, cheminį stabilumą ir mechaninį stiprumą.

Mūsų SIC padengtas epitaksijos sandarinimo žiedas yra aukštos kokybės sandarinimo komponentas, pagrįstas grafito ar anglies-anglies kompozitais, padengtais didelio grynumo silicio karbidu (SIC) cheminiu garų nusėdimu (CVD), kuris sujungia grafito terminį stabilumą su MOC, MOC, ir yra suprojektuota semiktarų epitaksialo įrangai (E.G.

„Veteksemicon“ pavienių vaflių EPI grafito suvokimas yra skirtas aukšto našumo silicio karbidui (SIC), galio nitridui (GAN) ir kitoms trečios kartos puslaidininkių epitaksiniam procesui, ir tai yra pagrindinis didelio tikslumo epitaksinio lapo komponentas.