Naujienos

Naujienos

Džiaugiamės galėdami pasidalinti su jumis savo darbo rezultatais, įmonės naujienomis, laiku papasakoti apie pokyčius ir personalo paskyrimo bei atleidimo sąlygas.
8 colių SiC epitaksinė krosnies ir homoepitaksinio proceso tyrimai29 2024-08

8 colių SiC epitaksinė krosnies ir homoepitaksinio proceso tyrimai

8 colių SiC epitaksinė krosnies ir homoepitaksinio proceso tyrimai
Puslaidininkinio substrato plokštelė: silicio, GaAs, SiC ir GaN medžiagų savybės28 2024-08

Puslaidininkinio substrato plokštelė: silicio, GaAs, SiC ir GaN medžiagų savybės

Straipsnyje analizuojamos puslaidininkinių plokštelių, tokių kaip silicis, GaAs, SiC ir GaN, medžiagų savybės
Gan pagrindu sukurta žemos temperatūros epitaksijos technologija27 2024-08

Gan pagrindu sukurta žemos temperatūros epitaksijos technologija

Šiame straipsnyje daugiausia aprašoma GAN pagrįsta žemos temperatūros epitaksialinė technologija, įskaitant GAN pagrįstų medžiagų kristalų struktūrą, 3 epitaksinių technologijų reikalavimus ir įgyvendinimo sprendimus, žemos temperatūros epitaxialinės technologijos pranašumus, pagrįstus PVD principais, ir žemos temperatūros epitaxalinės technologijos plėtros perspektyvas.
X
Naudojame slapukus siekdami pasiūlyti geresnę naršymo patirtį, analizuoti svetainės srautą ir suasmeninti turinį. Naudodamiesi šia svetaine sutinkate su mūsų slapukų naudojimu.Privatumo politika
AtmestiPriimti