Technika ir sprendimai

Pasirinkimo vadovas

01 CVD SiC, TaC ir kietojo SiC veikimo ribos epitaksijos ir ėsdinimo procesuose
05

01 CVD SiC, TaC ir kietojo SiC veikimo ribos epitaksijos ir ėsdinimo procesuose

Pasirinkus tinkamą CVD SiC, TaC dangą arba kietą SiC, epitaksijos / ėsdinimo linijose tiesiogiai nustatomas dalelių lygis ir komponento naudojimo laikas. Šiame straipsnyje pateikiamos aiškios pasirinkimo ribos pagal temperatūrą, atmosferą ir procesą, suderintos su pagrindiniais įrangos keitimo sprendimais ir pagrindine metrika, kad būtų lengviau priimti greitus sprendimus ir sumažinti riziką.
Peržiūrėti daugiau
X
Naudojame slapukus siekdami pasiūlyti geresnę naršymo patirtį, analizuoti svetainės srautą ir suasmeninti turinį. Naudodamiesi šia svetaine sutinkate su mūsų slapukų naudojimu. Privatumo politika
AtmestiPriimti