žinios

Pramonės naujienos

ALD atominio sluoksnio nusodinimo receptas27 2024-07

ALD atominio sluoksnio nusodinimo receptas

Erdvinis ALD, erdviškai išskirtas atominio sluoksnio nusėdimas. Vaflis juda tarp skirtingų padėčių ir yra veikiamas skirtingų pirmtakų kiekvienoje padėtyje. Žemiau pateiktas paveikslas yra tradicinio ALD ir erdvės izoliuoto ALD palyginimas.
„Tantalum“ karbido technologijos proveržis, SiC epitaksinė tarša sumažėjo 75%?27 2024-07

„Tantalum“ karbido technologijos proveržis, SiC epitaksinė tarša sumažėjo 75%?

Neseniai Vokietijos tyrimų institutas „Fraunhofer IISB“ padarė proveržį tiriant ir plėtojant „Tantalum“ karbido dangos technologiją, ir sukūrė lanksčiau ir ekologiškesnį purškimo dangos tirpalą, kuris yra lankstesnis ir ekologiškesnis nei CVD nusėdimo sprendimas, ir buvo komercializuotas.
Tiriamasis 3D spausdinimo technologijos taikymas puslaidininkių pramonėje19 2024-07

Tiriamasis 3D spausdinimo technologijos taikymas puslaidininkių pramonėje

Greito technologinės plėtros eroje 3D spausdinimas, kaip svarbus pažengusios gamybos technologijos atstovas, pamažu keičia tradicinės gamybos veidą. Nuolatiniam technologijos brandumui ir išlaidų sumažinimui, 3D spausdinimo technologija parodė plačias taikymo perspektyvas daugelyje sričių, tokių kaip aviacijos ir kosmoso, automobilių gamyba, medicininė įranga ir architektūrinis dizainas, ir skatino šių pramonės šakų naujoves ir plėtrą.
Silicio (SI) epitaksijos paruošimo technologija16 2024-07

Silicio (SI) epitaksijos paruošimo technologija

Vien tik vienos kristalinės medžiagos negali patenkinti augančių įvairių puslaidininkių prietaisų gamybos poreikių. 1959 m. Pabaigoje buvo sukurtas plonas pavienių kristalų medžiagų augimo technologijos sluoksnis - buvo sukurtas epitaksinis augimas.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept