Sic konsoles irklai

Ⅰ.Produkto naudojimo apžvalga

„SiC Conilever“ irklai daugiausia naudojami puslaidininkių gamybos įrangoje kaip vaflių palaikymo ir transmisijos komponentai. Pagrindinė jo funkcija yra stabiliai ir tiksliai apdoroti silicio vaflius ekstremaliomis proceso sąlygomis, tokiomis kaip aukšta temperatūra ir aukšta korozija, užtikrinant sklandų ir efektyvų gamybos procesą.

Ⅱ. SiC medžiagų prigimtys ir charakteristikos

SIC yra pažangi keraminė medžiaga, kurios puikios fizinės savybės suteikia neprilygstamą pranašumą puslaidininkių lauke. Toliau pateikiami pagrindiniai fiziniai parametrai, susiję su „SiC Conilever“ irklais:

● Aukštas grynumas: Naudojant didelio grynumo SIC medžiagą, galima sumažinti užteršimą proceso ir pagerinti produkto derlių.

● Puikus atsparumas aukštai temperatūrai: SIC yra iki 2830 ° C lydymosi taškas, kuris leidžia išlaikyti struktūrinį vientisumą ekstremaliose temperatūros aplinkose, tokiose kaip plazmos ėsdinimas ir aukštos temperatūros atkaitinimas, o ilgalaikė darbo temperatūra gali pasiekti daugiau nei 1000 ° C.

● Aukštas kietumas ir atsparumas dilimui: „Mohs“ kietumas yra 9–9,5, antras-tik deimantui, suteikiant puikų „SiC“ konsolų irklų atsparumą dilimui ir palaikant matmenų stabilumą aukšto dažnio vaflių perdavimo metu.

● Puikus šilumos laidumas: SiC keramikos šilumos laidumas yra net 120–250 W/(m · k) (tipinė vertė), kuri gali greitai išsklaidyti šilumą ir išvengti vietinio perkaitimo, kuris gali sugadinti vaflį.

● Žemas šiluminio išsiplėtimo koeficientas: Mažas šiluminio išsiplėtimo koeficientas (apie 4,0 × 10⁻⁶ /k) užtikrina matmenų stabilumą, kai keičiasi temperatūra, išvengiama įtempio, kurį sukelia šiluminis išsiplėtimas ir susitraukimas, ir taip sumažina vaflių pažeidimo riziką.

Ⅲ. SiC konsoles irklų taikymo scenarijai

Unikalios „SiC Conilever“ irklų savybės suteikia jiems galimybę atlikti pagrindinį vaidmenį keliose puslaidininkių gamybos nuorodose:

● Plazmos ėsdinimo įranga: Plazmos oforto kameroje „SiC Conilever“ irklai tarnauja kaip vaflių atramos, kurios gali atlaikyti bombardavimą plazmoje ir korozinei dujų erozijai, išlaikant matmenų stabilumą, užtikrinant ėsdinimo tikslumą ir prailginant įrangos tarnavimo laiką.

● Plonos plėvelės nusėdimo įranga (CVD/PVD): Cheminio garų nusėdimo (CVD) ir fizinio garų nusėdimo (PVD) procese vafliams palaikyti naudojami sic konsolės irklai. Jų puikus atsparumas aukštai temperatūrai ir šilumos laidumas padeda tolygiai pašildyti vaflius ir užkirsti kelią dalelių užterštumui, sukuriamam plonos plėvelės nusėdimo proceso metu.

● Vaflių perdavimo sistema: Automatinėje vaflių perdavimo sistemoje „SiC“ konsolės irklai gali atlaikyti aukšto dažnio mechaninį judėjimą dėl didelio kietumo ir atsparumo dilimui, užtikrinant tikslų ir greitą vaflių perkėlimą tarp skirtingų proceso kamerų, sumažinant vaflių pažeidimo ir užteršimo riziką.

● Aukštos temperatūros atkaitinimo procesas: Aukštos temperatūros atkaitinimo krosnyje „SiC Conilever“ irklai gali atlaikyti ypač aukštos temperatūros aplinką, užtikrinti stabilią vaflių palaikymą ir užtikrinti atkaitinimo proceso vienodumą ir efektyvumą.

„Veteksemicon“ puikiai supranta griežtus puslaidininkių procesų reikalavimus produkto kokybei. Todėl mes palaikome pritaikytas paslaugas ir galime pateikti pritaikytą „SiC Conilever“ irklų dizainą ir gamybą pagal jūsų konkrečią įrangos ir proceso reikalavimus. Mes taip pat kontroliuosime griežtą kokybės kontrolę, kad užtikrintume, jog kiekvienas produktas atliks griežtas kokybės patikrinimus, kad užtikrintų, jog jis atitinka aukščiausius pramonės standartus.

Dar svarbiau, kad „Vetek Semiconductor“ techninė komanda suteiks jums išsamius technines konsultacijas ir produktų sprendimus. Pasirinkti mūsų „Sic Conilever“ irklą reiškia, kad reikia pasirinkti didesnį gamybos efektyvumą, ilgesnį įrangos tarnavimo laiką ir geresnį produkto derlių. Laukiu tolesnių konsultacijų.