SiC dengtas vaflių laikiklis

V„ETEK“ puslaidininkio slidės dengtas vaflių laikiklis paprastai naudojamas vafliams pritvirtinti ir palaikyti puslaidininkių apdorojimo metu. Tai yra aukštos kokybėsVaflių laikiklisplačiai naudojamas puslaidininkių gamyboje. Padengdamas silicio karbido (sic) sluoksnįsubstratas, produktas gali veiksmingai užkirsti kelią substrato korozijai ir pagerinti vaflių nešiklio atsparumą korozijai ir mechaninį stiprumą, užtikrinant perdirbimo proceso stabilumą ir tikslumus.

SiC dengtas vaflių laikiklisPaprastai naudojamas vafliams pritvirtinti ir palaikyti puslaidininkių apdorojimo metu. Tai yra aukštos kokybės vaflių nešiklis, plačiai naudojamas puslaidininkių gamyboje. Padengdamas sluoksnįSilicio karbidas (sic)Substrato paviršiuje produktas gali veiksmingai užkirsti kelią substrato korozijai ir pagerinti atsparumą korozijai ir mechaniniam stiprumuiVaflių nešiklis, užtikrinantis apdorojimo proceso stabilumo ir tikslumo reikalavimus.

Silicio karbido (SIC) lydymosi taškas yra apie 2 730 ° C, o puikus šilumos laidumas yra apie 120–180 W/m · k. Ši savybė gali greitai išsklaidyti šilumą aukštos temperatūros procesuose ir užkirsti kelią vaflinuko ir nešiklio perkaitimui. Todėl SIC padengtas vaflių laikiklis paprastai naudoja silicio karbidą (SIC) padengtą grafitą kaip substratą.

Silicio karbido (SIC) danga, dedama iš CVD proceso, kartu su ypač dideliu SiC (Vickers kietumu, maždaug 2500 HV) kietumu, silicio karbido (SIC) danga gali būti tanki ir stipri apsauginė danga, kuri žymiai pagerina SIC padengto vaflinio laikiklio atsparumą dilimui.

„Vetek“ puslaidininkio SIC dengtas vaflių laikiklis yra pagamintas iš SiC dengto grafito ir yra nepakeičiamas pagrindinis komponentas šiuolaikinių puslaidininkių epitaksijos procesuose. Jis sumaniai sujungia puikų grafito šilumos laidumą (šilumos laidumas yra apie 100–400 W/m · k kambario temperatūroje) ir mechaninį stiprumą, o puikus cheminės korozijos atsparumas ir šiluminis stabilumas silicio karbido metu (SIC lydymosi taškas yra apie 2 730 ° C), tobulai tenkinant griežtus šių dienų aukšto lygio semikaldų gamybos aplinkos.

Šis vieno vaflininko dizaino laikiklis gali tiksliai valdytiepitaksinis procesasParametrai, kurie padeda gaminti aukštos kokybės, aukštos kokybės puslaidininkinius įrenginius. Jo unikalus konstrukcinis konstrukcija užtikrina, kad vaflis būtų tvarkomas daugiausiai priežiūros ir tikslumo visame procese, taip užtikrinant puikią epitaksinio sluoksnio kokybę ir pagerinant galutinio puslaidininkio produkto veikimą.

Kaip Kinijos pirmaujantiSiC padengtasVaflių laikiklio gamintojas ir vadovas, „Vetek Semiconductor“, gali pateikti pritaikytus produktus ir technines paslaugas pagal jūsų įrangos ir proceso reikalavimus.Mes nuoširdžiai tikimės būti jūsų ilgalaikis partneris Kinijoje.

CVD SIC plėvelės kristalų struktūros SEM duomenys

Pagrindinės fizinės CVD SIC dangos savybės

„Vetek“ puslaidininkių sic dengtų vaflių laikiklių gamybos parduotuvės ：