Kieto SiC dujinė dušo galvutė

Kieto SiC dujinė dušo galvutė

„Vetek Semiconductor“ yra integruota įmonė, skirta tyrimams, gamybai ir pardavimams. „Vetek Semiconductor“ daugelį metų dirbo su puslaidininkių epitaksija, ėsdinimu ir kitais su procesais susijusius produktus, ypač mūsų pavyzdinius produktus, ypač CVD SIC dangą, CVD TAC dangą ir CVD kietą SIC.

„Vetek“ puslaidininkių kietos sic dujų dušo galvutė dažniausiai naudojama tolygiai paskirstyti pirmtakų dujas ant substrato paviršiaus puslaidininkių CVD procesų metu. CVD-SIC medžiagos naudojimas dušo galvutėms suteikia keletą pranašumų. Didelis šilumos laidumas padeda išsklaidyti šilumą, susidarančią CVD procese, užtikrinant vienodą substrato temperatūros pasiskirstymą. Be to, CVD SIC dušo galvutės cheminis stabilumas suteikia galimybę atlaikyti ėsdinančias dujas ir atšiaurią aplinką, dažniausiai patiriamą CVD procesuose. 

CVD SIC dušo galvučių dizainas gali būti pritaikytas konkrečioms CVD sistemoms ir proceso reikalavimams. Tačiau jie paprastai susideda iš plokštelės ar disko formos komponento su tiksliomis gręžiamomis skylutėmis ar lizdais. Skylių modelis ir geometrija yra kruopščiai suprojektuoti siekiant užtikrinti vienodą dujų pasiskirstymą ir srauto greitį virš substrato paviršiaus.

Fizinės kieto sic savybės