Tantalo karbidas padengtas žiedas

Vetek puslaidininkis tantalum karbidas dengtas žiedas yra pagamintas išgrafitasir padengtas tantalo karbidu - deriniu, kuris pasitelkia geriausias abiejų medžiagų savybes, kad užtikrintų puikų našumą ir ilgaamžiškumą. 

TAC danga ant tantalum karbido dangos žiedo užtikrina, kad jis išliks chemiškai inertiškas reaktyvioje SiC kristalų augimo krosnių atmosferoje, kuri dažnai apima tokias dujas kaip vandenilis, argonas ir azotas. Šis cheminis inertiškumas yra gyvybiškai svarbus siekiant užkirsti kelią augančio kristalo užterštumui, o tai gali sukelti defektus ir sumažinti galutinių puslaidininkių produktų veikimą. Be to, TAC dangos užtikrintas šiluminis stabilumas leidžia tantalum karbido dangos žiedui efektyviai veikti aukštoje temperatūroje, reikalingoje SiC kristalų augimui, paprastai viršijant 2000 ° C.

Tankią ir vienodą TAC dangą galima paruošti ant grafito paviršiaus purškiant plazmoje, CVD metodą ir srutų sukepinimo metodą, tačiau purškimo plazmoje metodas plazmoje turi aukštus įrangos reikalavimus ir TA2C susidarymą. Sunku paruošti kompozicinę dangą srutų sukepinimo metodu, o dangos šiluminis smūgio atsparumas yra prastas. CVD metodu paruošta danga turi kontroliuojamą kompoziciją ir didžiausią tankį, o tai šiuo metu yra įprastas tantalum karbido dengimo metodas.

TACTALUMO CARBIDO DANGINIMO ŽURDYMO NUSTATYMAS MECHANINĖS TAC savybės žymiai sumažina. Tai labai svarbu dėl pasikartojančio kristalų augimo proceso pobūdžio, kuris nukreipia kreipiamąjį žiedą į dažnus šiluminius ciklus ir mechaninius įtempius. TAC kietumas ir atsparumas dilimui užtikrina, kad TAC padengtas žiedas per ilgą laiką palaiko savo konstrukcinį vientisumą ir tikslus matmenis, sumažindamas poreikį dažnai pakeisti ir sumažinti prastovą gamybos procese. 

Tantalum karbido dangos tūrio tankis yra 14,3 gm/cm3, spinduliavimas 0,3, kietumas yra 2000hk, lydymosi temperatūra yra 3950S ℃, o geros fizinės savybės buvo parinktos kaip įprasta medžiaga trečiajai puslaidininkių kartai.

Be to, grafito ir TAC derinys tantalo karbido dangos žiede optimizuoja šiluminį valdymą kristalų augimo krosnyje. Didelis grafito šilumos laidumas efektyviai paskirsto šilumą, užkirsdamas kelią taškams ir skatina vienodą kristalų augimą. Tuo tarpu TAC danga tarnauja kaip šiluminis užtvara, apsauganti grafito šerdį nuo tiesioginio aukštos temperatūros ir reaktyvių dujų poveikio. Dėl šerdies ir dangos medžiagų sinergija lemia kreipiamąjį žiedą, kuris ne tik atlaiko atšiaurias sąlygasSiC kristalų augimasbet taip pat padidina bendrą proceso efektyvumą ir kokybę.

„Vetek“ puslaidininkių tantalum karbidas padengtas žiedas yra esminis puslaidininkių pramonės komponentas, specialiai sukurtas augti augimuiSilicio karbido kristalai. Jo dizainas panaudoja grafito ir tantalo karbido stipriąsias puses, kad būtų užtikrintas išskirtinis našumas aukštos temperatūros, didelio streso aplinkoje. TAC danga užtikrina cheminį inertiškumą, mechaninį ilgaamžiškumą ir šiluminį stabilumą, kurie visi yra labai svarbūs gaminant aukštos kokybės SiC kristalus. Išlaikydamas savo vientisumą ir funkcionalumą ekstremaliomis sąlygomis, žiedas palaiko veiksmingą SIC kristalų augimą, kuris prisideda prie didelės galios ir aukšto dažnio puslaidininkių prietaisų tobulėjimo.

„Vetek Semiconductor“ yra pagrindinis gamintojas ir tiekėjasTantalo karbido danga, Silicio karbido dangairSpecialus grafitasKinijoje. Mes jau seniai esame įsipareigoję pateikti pažangias technologijas ir produktų sprendimus puslaidininkių pramonei ir nuoširdžiai tikimės, kad būsite jūsų ilgalaikį partnerį Kinijoje.

Tantalo karbido (TAC) dangaant mikroskopinio skerspjūvio：

Overview of thepuslaidininkių lustų epitaksijos pramonės grandinė：