CVD SIC dengtas sijonas

„Vetek Semiconductor“ yra profesionalus CVD SIC dengto sijono gamintojas Kinijoje.

„Aixtron“ įrangos giliųjų ultravioletinių spindulių epitaksijos technologija atlieka lemiamą vaidmenį puslaidininkių gamyboje. Ši technologija naudoja gilų ultravioletinės šviesos šaltinį įvairioms medžiagoms nusodinti ant plokštelės paviršiaus per epitaksinį augimą, kad būtų galima tiksliai kontroliuoti plokštelės veikimą ir funkciją. Giliųjų ultravioletinių spindulių epitaksijos technologija naudojama labai įvairiai, apimanti įvairių elektroninių prietaisų gamybą nuo šviesos diodų iki puslaidininkinių lazerių.

Šiame procese pagrindinį vaidmenį atlieka CVD SiC padengtas sijonas. Jis skirtas palaikyti epitaksinį lakštą ir priversti epitaksinį lakštą suktis, kad būtų užtikrintas vienodumas ir stabilumas epitaksinio augimo metu. Tiksliai kontroliuojant grafito susceptoriaus sukimosi greitį ir kryptį, galima tiksliai kontroliuoti epitaksinio nešiklio augimo procesą.

Produktas yra pagamintas iš aukštos kokybės grafito ir silicio karbido dangos, užtikrinant puikų jo našumą ir ilgą tarnavimo laiką. Importuota grafito medžiaga užtikrina produkto stabilumą ir patikimumą, kad ji galėtų gerai veikti įvairiose darbo aplinkose. Kalbant apie dangą, norint užtikrinti dangos vienodumą ir stabilumą, naudojama mažesnė nei 5ppm silicio karbido medžiaga. Tuo pačiu metu naujasis procesas ir grafito medžiagos šiluminio išplėtimo koeficientas yra geras atitikimas, pagerina produkto atsparumą aukštai temperatūrai ir šiluminio smūgio atsparumą, kad jis vis tiek galėtų išlaikyti stabilų našumą aukštos temperatūros aplinkoje.

Pagrindinės fizinės CVD SIC dengto sijono savybės:

VeTek Semiconductor CVD SiC Coated Skirt gaminių parduotuvės:

Puslaidininkinio lustų „Epitaxy“ pramonės grandinės apžvalga: