CVD TaC padengtas susceptorius

Produkto apibrėžimas ir sudėtis

VETEK CVD TaC Coated Susceptor yra aukščiausios klasės plokštelių nešiklio komponentas, specialiai naudojamas trečiosios kartos puslaidininkių (SiC, GaN, AlN) epitaksiniam apdorojimui. Šis gaminys sujungia dviejų aukštos kokybės medžiagų fizinius pranašumus:

Aukšto grynumo grafito substratas: Naudojamas izostatinio presavimo formavimo procesas, siekiant užtikrinti, kad substratas turi puikų konstrukcinį stiprumą, didelį tankį ir terminio apdorojimo stabilumą.

CVD TaC danga: Tantalo karbido (TaC) apsauginis sluoksnis išauginamas ant grafito paviršiaus naudojant pažangią cheminio nusodinimo garais (CVD) technologiją.

Pagrindiniai techniniai pranašumai: išskirtinis prisitaikymas prie aplinkos

MOCVD procese TaC danga yra ne tik fizinis apsauginis sluoksnis, bet ir proceso pakartojamumą užtikrinantis pagrindas:

Atsparumas itin aukštoms temperatūroms: TaC lydymosi temperatūra siekia net 3880°C, todėl išlaiko puikų formos stabilumą net esant itin aukštos temperatūros epitaksiniams procesams virš 1600°C.

Puikus Atsparumas korozijai: stipriai redukuojančioje aplinkoje, kurioje yra NH₃ (amoniako) arba H₂ (vandenilio), TaC korozijos greitis yra labai mažas, veiksmingai užkertant kelią substrato praradimui ir priemaišų nusodinimui.

Itin aukšto grynumo garantija: Dangos grynumas siekia net 99,9995%. Jo tanki struktūra visiškai užsandarina grafito mikroporas, užtikrindama, kad epitaksinė plėvelė pasiektų itin žemą nešvarumų lygį.

Tikslus šiluminio lauko paskirstymas: VETEK optimizuota dangos valdymo technologija užtikrina, kad susceptoriaus paviršiaus temperatūros skirtumas būtų kontroliuojamas ± 2°C, žymiai pagerindamas plokštelės epitaksinio sluoksnio storį ir bangos ilgio nuoseklumą.

Techniniai parametrai

Tantalo karbido (TaC) danga ant mikroskopinio skerspjūvio:

Pagrindinės taikymo sritys

SiC (silicio karbido) epitaksinis augimas: palaiko 6 colių, 8 colių ir didesnio dydžio SiC maitinimo įrenginių gamybą.

GaN (galio nitrido) pagrindu pagaminti įrenginiai: Naudojamas MOCVD procesuose didelio ryškumo šviesos diodams, HEMT maitinimo įrenginiams ir RF lustams.

AlN (aliuminio nitridas) ir UVC augimas: Teikia itin aukštos temperatūros (1400°C+) nešiklio sprendimus, skirtus itin plataus diapazono medžiagoms, tokioms kaip gilūs UV šviesos diodai.

Individualus tyrimų palaikymas: Prisitaiko prie tikslaus įvairių netaisyklingų dalių ir kelių skylių diskų pritaikymo tyrimų institutų poreikių.

Suderinami modeliai ir pritaikymo paslaugos

VETEK turi tikslias mechaninio apdirbimo ir dengimo galimybes, puikiai prisitaikydamas prie visuotinės pagrindinės MOCVD įrangos:

AIXTRON: Palaiko įvairius planetų sukimosi diskus ir pagrindus.

Veeco: Palaiko K465i, Propel ir kitas vertikalias susceptorių serijas.

AMEC ir kt: Teikia visiškai suderinamas atsargines dalis arba atnaujinimo sprendimus.