MOCVD EPI SUSCEPTER

Pusiau'S.MOCVD EPI SUSCEPTERyra pagrindinis komponentas. Puslaidininkinių prietaisų paruošimo procese,MOCVD EPI SUSCEPTERyra ne tik paprasta šildymo platforma, bet ir tikslaus proceso įrankis, kuris daro didelę įtaką plonos plėvelės medžiagų kokybei, augimo greičiui, vienodumui ir kitiems aspektams.

Konkretus naudojimasMOCVD EPI SUSCEPTERPuslaidininkių apdorojimas yra toks:

● Substrato šildymo ir vienodumo valdymas:

MOCVD epitaksijos jautrininkas yra naudojamas vienodai šildymui užtikrinti stabilią substrato temperatūrą epitaksinio augimo metu. Tai labai svarbu norint gauti aukštos kokybės puslaidininkių plėveles ir užtikrinti, kad epitaksinių sluoksnių storio ir kristalų kokybės konsistencija visame substrate.

● Cheminio garų nusėdimo (CVD) reaktoriaus kamerų atrama:

Kaip svarbus CVD reaktoriaus komponentas, „Steptor“ palaiko metalų organinių junginių nusėdimą ant substratų. Tai padeda tiksliai paversti šiuos junginius į kietas plėveles, kad sudarytų norimas puslaidininkių medžiagas.

● Skatinti dujų paskirstymą:

„Sceptor“ dizainas gali optimizuoti dujų pasiskirstymą reakcijos kameroje, užtikrinant, kad reakcijos dujos tolygiai kontaktų su substratu, taip pagerindamas epitaksinių plėvelių vienodumą ir kokybę.

Galite būti tikri pirkti pritaikytąMOCVD EPI SUSCEPTERIš mūsų laukiame bendradarbiavimo su jumis. Jei norite sužinoti daugiau informacijos, galite nedelsdami pasikonsultuoti su mumis ir mes jums atsakysime laiku!

Pagrindinės fizinės CVD SIC dangos savybės:

Gamybos parduotuvės:

Puslaidininkinio lustų „Epitaxy“ pramonės grandinės apžvalga：