Interneto meniu

Produktų paieška

Kalba

Produktai
PSS ėsdinimo nešiklio plokštelė puslaidininkiui
  • PSS ėsdinimo nešiklio plokštelė puslaidininkiuiPSS ėsdinimo nešiklio plokštelė puslaidininkiui
  • PSS ėsdinimo nešiklio plokštelė puslaidininkiuiPSS ėsdinimo nešiklio plokštelė puslaidininkiui

PSS ėsdinimo nešiklio plokštelė puslaidininkiui

„Vetek Semiconductor“ PSS ėsdinimo plokštėje, skirtoje puslaidininkiui, yra aukštos kokybės, ypač plaučių grafito nešiklis, skirtas vaflių tvarkymo procesams. Mūsų vežėjai pasižymi puikiais našumais ir gali gerai veikti atšiaurioje aplinkoje, aukštoje temperatūroje ir atšiauriose cheminio valymo sąlygose. Mūsų produktai yra plačiai naudojami daugelyje Europos ir Amerikos rinkų, ir mes tikimės, kad taps jūsų ilgalaikiu partneriu Kinijoje. Kviečiame atvykti į Kiniją aplankyti mūsų gamyklos ir sužinoti daugiau apie mūsų technologijas ir produktus.
Siųsti užklausą 
Prekės aprašymas

Kaip pagrindinis profesionalus šios srities gamintojas, „Vetek Semiconductor“ džiaugiasi galėdamas pasiūlyti jums aukščiausio lygio PSS ėsdinimo nešiklio plokšteles, pritaikytas specialiai puslaidininkių pramonei.


Mūsų PSS ėsdinimo puslaidininkių nešiojimo plokštės yra labai specializuoti komponentai, kurie yra būtini plazmos šaltinio spektroskopijos (PSS) ėsdinimo procedūrose, atliekant puslaidininkių gamybos sritį. Šios plokštelės atlieka pagrindinį vaidmenį ėsdinimo proceso metu. Jie teikia stabilią atramą ir užtikrina sklandų puslaidininkių vaflių gabenimą, o tai yra nepaprastai svarbi tikslumui ir ėsdinimo operacijai.


Mes nuoširdžiai kviečiame susisiekti su mumis bet kokiems klausimams. Mes visada esame pasirengę padėti ir pateikti išsamesnę informaciją apie mūsų išskirtinius produktus.




PSS ėsdinimo nešiklio plokštelė puslaidininkiuiPagrindinės savybės:

● Tikslus dizainas: Nešiklio plokštė yra sukurta tiksliais matmenimis ir paviršiaus lygumu, kad būtų užtikrintas vienodas ir nuoseklus ėsdinimas per puslaidininkių plokšteles. Tai suteikia stabilią ir kontroliuojamą vaflių platformą, leidžiančią pasiekti tikslius ir patikimus ėsdinimo rezultatus.

● Atsparumas plazmoje: Nešiklio plokštelė pasižymi puikiu atsparumu plazmoje, naudojamoje ėsdinimo procese. Tai vis dar neturi įtakos reaktyviosios dujos ir didelės energijos plazmoje, užtikrinant ilgalaikį tarnavimo laiką ir nuoseklų našumą.

● Šilumos laidumas: Nešiklio plokštelė pasižymi dideliu šilumos laidumu, kad efektyviai išsklaidytų šilumą, susidarančią ėsdinimo proceso metu. Tai padeda palaikyti optimalią temperatūros valdymą ir neleidžia perkaitinti puslaidininkių vaflių.

● Suderinamumas: PSS ėsdinimo nešiklio plokštė yra suderinama su įvairiais puslaidininkių vaflių dydžiais, paprastai naudojamais pramonėje, užtikrinant universalumą ir paprastą naudojimą įvairiuose gamybos procesuose.


PSS ėsdinimo nešiklio plokštelės produkto parametras puslaidininkiui

Pagrindinės fizinės CVD SIC dangos savybės
Nuosavybė Tipinė vertė
Kristalų struktūra FCC β fazės polikristalinė, daugiausia (111) orientuota
SiC dangos tankis 3,21 g/cm³
CVD SiC dangos kietumas 2500 „Vickers“ kietumas （500 g apkrova）
Grūdų dydis 2 ~ 10 μm
Cheminis grynumas 99.9995%
Šilumos talpa 640 j · kg-1· K-1
Sublimacijos temperatūra 2700 ℃
Lenkimo jėga 415 MPA RT 4 taškų
Youngo modulis 430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Šilumos laidumas 300W · m-1· K-1
Šilumos išsiplėtimas (CTE) 4,5 × 10-6K-1



IT puslaidininkis PSS ėsdinimo nešiklio plokštelė puslaidininkiuiGamybos parduotuvė

SiC Graphite substrateCVD TaC coating cover testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment



Puslaidininkinio lustų epitaksijos pramonės grandinės apžvalga:

SiC Epitaxy Si Epitaxy GaN Epitaxy

Hot Tags: PSS ėsdinimo nešiklio plokštelė puslaidininkiui
Susijusi kategorija
Siųsti užklausą
Kontaktinė informacija
Jei turite klausimų apie silicio karbido dangą, tantalo karbido dangą, specialų grafitą ar kainoraštį, palikite mums savo el. laišką ir mes susisieksime per 24 valandas.
Susiję produktai
SiC padengtas ICP ėsdinimo laikiklis
SiC padengtas ICP ėsdinimo laikiklis Peržiūrėti daugiau >>
Sic ICP ėsdinimo plokštė
Sic ICP ėsdinimo plokštė Peržiūrėti daugiau >>
SiC padengtas e-chuckas
SiC padengtas e-chuckas Peržiūrėti daugiau >>
Plazmos oforto fokusavimo žiedas
Plazmos oforto fokusavimo žiedas Peržiūrėti daugiau >>
SiC dengtas vaflių laikiklis ėsdinimui
SiC dengtas vaflių laikiklis ėsdinimui Peržiūrėti daugiau >>
Naujienų rekomendacijos
Kas yra „Tantalum Carbide TAC“ danga? - „Veteksemicon“
Kas yra „Tantalum Carbide TAC“ danga? - „Veteksemicon“Peržiūrėti daugiau >>
8 colių SiC epitaksinė krosnies ir homoepitaksinio proceso tyrimai
8 colių SiC epitaksinė krosnies ir homoepitaksinio proceso tyrimaiPeržiūrėti daugiau >>
Išsamus lustų gamybos proceso (2/2) paaiškinimas: nuo vaflių iki pakuotės ir bandymų
Išsamus lustų gamybos proceso (2/2) paaiškinimas: nuo vaflių iki pakuotės ir bandymųPeržiūrėti daugiau >>
Silicio (SI) epitaksijos paruošimo technologija
Silicio (SI) epitaksijos paruošimo technologijaPeržiūrėti daugiau >>
Kas yra silicio karbido keramika?
Kas yra silicio karbido keramika?Peržiūrėti daugiau >>
Remiantis 8 colių silicio karbido vieno krištolo augimo krosnies technologija
Remiantis 8 colių silicio karbido vieno krištolo augimo krosnies technologijaPeržiūrėti daugiau >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept