Kvarcinės krosnies vamzdis difuzinei krosnei

1. Pagrindinės savybės ir pranašumai

• Itin didelio grynumo dehidroksilintas lydytas kvarcas (SiO₂ ≥ 99,999%) su metalų priemaišomis, kontroliuojamomis ppb lygiu ir itin mažu hidroksilo kiekiu

• Ilgalaikė darbo temperatūra iki 1100 °C; trumpalaikis didžiausias atsparumas iki 1200 °C

• Puikus atsparumas šiluminiam smūgiui po visiško įtempių sumažinimo atkaitinimo – atsparus įtrūkimams esant dideliems temperatūros pokyčiams

• Išskirtinis cheminis inertiškumas oksiduojančių, redukuojančių ir halogenų turinčių proceso dujų atžvilgiu; tinka plazmai ir korozinei atmosferai

• Labai mažas vakuuminis dujų išsiskyrimas; lygi vidinė sienelė sumažina šalutinių produktų kaupimąsi ir palaiko proceso pakartojamumą

• Vieno gabalo formavimas su vienodu sienelės storiu, dideliu bendraašiškumu ir tiksliai apdirbtais galais patikimam sandarinimui

• Pritaikomos konstrukcijos: tiesūs vamzdžiai, reduktorių vamzdžiai, flanšiniai vamzdžiai, pailginti ilgiai ir specialios galinės konfigūracijos vertikalioms arba horizontalioms krosnims

2. Tipinės programos

VeTek kvarcinės krosnies vamzdžiai plačiai naudojami kaip pagrindinė reakcijos kamera:

• terminio oksidavimo krosnys (sausoji/šlapioji oksidacija)

• Difuzinės krosnys priedo įvedimui (B, P, As ir kt.)

• LPCVD sistemos plonasluoksniam nusodinimui

• Vakuuminis atkaitinimas ir kiti aukštos temperatūros terminio apdorojimo procesai

• Suderinamas su 4 colių, 6 colių, 8 colių ir 12 colių plokštelių platformomis (Si, SiC, GaN, safyro substratai)

Jie palaiko logiką, atmintį, maitinimo įrenginį, MCU, LED, MEMS ir plataus dažnio puslaidininkių gamybos linijas, kurioms reikalingas stabilus temperatūros vienodumas, dujų srauto valdymas ir itin švari proceso aplinka.

3. Pagrindiniai techniniai parametrai

• Medžiaga: puslaidininkinis dehidroksilintas lydytas kvarcas (SiO₂ ≥ 99,999%), mažai hidroksilo, mažai metalinių priemaišų

• Suderinamumas su plokštelėmis: 4 / 6 / 8 / 12 colių

• Ilgalaikė darbo temperatūra: –20 °C iki 1100 °C; trumpalaikis pikas iki 1200 °C

• Procesas: vientisas terminis formavimas, sienų homogenizavimas, galo apdaila, atkaitinimas nuo įtampos, helio nuotėkio bandymas, itin švarus valymas

• Galimos konstrukcijos: tiesus vamzdis, reduktoriaus vamzdis, flanšinis vamzdis, prailgintas / pasirinktinio ilgio vamzdis, specialios konfigūracijos

• Pritaikymas: vidinis/išorinis skersmuo, ilgis, sienelės storis, flanšo specifikacijos ir specialios geometrijos pagal kliento brėžinius

4. Kodėl verta rinktis VeTek kvarcinių krosnių vamzdžius?

Kaip profesionalus puslaidininkinių kvarco komponentų gamintojas, VeTek Semiconductor siūlo:

• Didelio grynumo kvarco krosnių vamzdžiai, skirti oksidacijos, difuzijos, LPCVD ir atkaitinimo įrangai

• Griežta grynumo kontrolė, matmenų tikslumas ir švara, tinkama 10 / 100 klasės švarių patalpų gamybai

• Vertikalių ir horizontalių vamzdinių krosnių pilnas pritaikymas ir su OEM suderinamos konstrukcijos

• Papildomi puslaidininkiniai kvarco gaminiai, įskaitant plokšteles, tiglius, įdėklus ir kitus proceso komponentus

Mūsų kvarcinės krosnies vamzdžiai padeda išlaikyti stabilias šilumines ir dujų srauto sąlygas, sumažina dalelių ir metalo užterštumą ir prailgina eksploatavimo laiką nuolat veikiant aukštai temperatūrai – tai palaiko didesnę išeigą ir mažesnes puslaidininkių terminio apdorojimo išlaidas.