CVD TAC danga

CVD TaC danga (cheminio garų nusodinimo tantalo karbido danga) yra dangos produktas, daugiausia sudarytas iš tantalo karbido (TaC). TaC danga pasižymi itin dideliu kietumu, atsparumu dilimui ir atsparumu aukštai temperatūrai, todėl tai idealus pasirinkimas norint apsaugoti pagrindinius įrangos komponentus ir pagerinti proceso patikimumą. Tai nepakeičiama medžiaga puslaidininkių apdirbime.

CVD TAC dangos produktai paprastai naudojami reakcijos kamerose, vaflių laikikliuose ir ėsdinimo įrangoje ir vaidina šiuos pagrindinius vaidmenis jose.

CVD TAC danga dažnai naudojama vidiniams reakcijos kamerų, tokių kaip substratai, sienų plokštės ir kaitinimo elementai, vidiniams komponentams. Kartu su puikiu atsparumu aukštai temperatūrai, jis gali veiksmingai atsispirti aukštos temperatūros, korozinių dujų ir plazmos erozijai, taip efektyviai prailgindamas įrangos tarnavimo laiką ir užtikrinant proceso stabilumą bei produkto gamybos grynumą.

Be to, TAC dengtais vaflių nešikliais (tokiais kaip kvarco valtys, armatūra ir kt.) Taip pat turi puikų atsparumą šilumai ir cheminės korozijos atsparumą. Vaflių nešiklis gali užtikrinti patikimą vaflių palaikymą aukštoje temperatūroje, užkirsti kelią vaflių užterštumui ir deformacijai, todėl pagerina bendrą lusto derlių.

Be to, VeTek Semiconductor TaC danga taip pat plačiai naudojama įvairiose ėsdinimo ir plonų plėvelių nusodinimo įrangoje, pvz., plazminiuose ėsdintuvuose, cheminio garų nusodinimo sistemose ir kt. Šiose apdorojimo sistemose CVD TAC danga gali atlaikyti didelės energijos jonų bombardavimą ir stiprias chemines reakcijas. , taip užtikrinant proceso tikslumą ir pakartojamumą.

Kad ir kokie būtų jūsų specifiniai reikalavimai, mes parinksime geriausią sprendimą jūsų CVD TAC dangos poreikiams ir lauksime jūsų konsultacijos bet kuriuo metu.

„Vetek“ puslaidininkių CVD TAC dangos gaminių parduotuvės:

Puslaidininkinių lustų epitaksijos pramonės grandinės apžvalga: