Kvarco dujų paskirstymo plokštė

„Quartz“ dujų paskirstymo plokštelės, dar vadinamos kvarco dušo galvutėmis, yra kritiniai puslaidininkių gamybos komponentai. Svertas išskirtinis grynumas, aukštos temperatūros atsparumas ir kvarco atsparumas korozijai, šios plokštelės užtikrina vienodą ir stabilų proceso dujų srautą ant vaflinio paviršiaus. Šis tikslus pristatymas yra būtinas norint išlaikyti deponuotų filmų ar išgraviruotų savybių kokybę ir vienodumą.

Pagrindinės aukšto grynumo lydyto kvarco savybės

● Medžiaga: 99,99%aukšto grynumo lydyto kvarco

● Aukštos temperatūros atsparumas: Atlaiko aukštesnė nei 1000 ℃ temperatūra

● Atsparumas korozijai: Puikus patvarumas prieš proceso dujas ir plazmos aplinką

● Tikslus dujų srautas: Vienodas mikrolaidės pasiskirstymas, skirtas optimaliam dujų tiekimui ir nusėdimo vienodumui

● pritaikomas dizainas: Dydis, skylių modelis ir montavimo funkcijos gali būti pritaikytos konkrečioms įrangos modeliams

Pagrindiniai vaidmenys puslaidininkių gamyboje

1. Fizinis garų nusėdimas (PVD) ir cheminio garų nusėdimas (CVD)

Vaidmuo: PVD ir CVD procesuose dujų pasiskirstymo plokštė tiksliai nukreipia reaktyviosios dujas (pvz., Silaną, amoniaką, deguonį) arba pirmtakus ant vaflio, kad sudarytų norimą ploną plėvelę.

Specifiniai naudojimo būdai:

● Vienodumo kontrolė: Tiksliai modifikuotos plokštės mikro skylės užtikrina, kad dujų srautas ir koncentracija yra vienodi visame vaflių paviršiuje. Tai yra gyvybiškai svarbu nusodinti plėveles, turinčias pastovaus storio ir našumo.

● Užteršimo prevencija: didelis kvarco grynumas neleidžia plokštelei reaguoti su proceso dujomis ar išleidžiant priemaišas. Tai palaiko plėvelės grynumą ir neleidžia vaflinio paviršiaus trūkumams.

2. Plazmoje patobulintas cheminio garų nusėdimas (PECVD)

Vaidmuo: „PECVD“ kvarco dušo galvutė ne tik suteikia reaktyviųjų dujų, bet ir veikia kaip plazmos generavimo elektrodas.

Specifiniai naudojimo būdai:

● Plazmos uždegimas: dušo galvutė paprastai yra prijungta prie radijo dažnio (RF) maitinimo šaltinio, kad būtų galima generuoti plazmą. Didelės energijos dalelės plazmoje skatina dujinių reagentų skilimą, leidžiančią plėvelės nusėdimui žemesnėje temperatūroje.

● Šilumos stabilumas: kvarcas pasižymi puikiu šiluminio stabilumu, leisdamas jam atlaikyti aukštos temperatūros plazmos aplinką. Tai padeda išlaikyti vienodą temperatūrą proceso kameroje, dar labiau užtikrinant plėvelės kokybę ir konsistenciją.

3. Sausas ėsdinimas

Vaidmuo: Sausame ėsdinant dujų pasiskirstymo plokštelę į ėsdinimo kamerą įveskite reaktyviosios ėsdinančias dujas (pvz., Fluoroklidinius, chlorą).

Specifiniai naudojimo būdai:

● Etch vienodumas: plokštelė užtikrina vienodą ėsdinimo dujų srautą ir koncentraciją, o tai garantuoja pastovų ėsdinimo gylį ir profilį visame vaflinyje. Tai labai svarbu norint pasiekti tikslus modelius, reikalingus pažengusiems puslaidininkių prietaisams.

● Atsparumas korozijai: Dėl stiprių ėsdinančių dujų korozinių savybių reikia patvarios medžiagos. Didelis „Quartz“ atsparumas korozijai pratęsia dušo galvutės eksploatavimo laiką ir sumažina proceso pertraukimų riziką.

4. Vaflių valymas

Vaidmuo: Vykdant specifinius vaflių valymo procesus, kvarco dujų paskirstymo plokštė naudojama valymo dujoms (pvz., Ozono, amoniako) valymui vienodai į vaflinio paviršiaus, kad būtų pašalintos likučiai ar teršalai.

Specifiniai naudojimo būdai:

● Nuoseklus valymas: plokštelė užtikrina, kad dujų valymas pasiektų kiekvieną vaflio dalį, leisdama atlikti išsamų ir vienodą valymo procesą.

● Cheminis suderinamumas: „Quartz“ suderinamumas su įvairiais valymo cheminėmis medžiagomis apsaugo nuo reakcijų ir palaiko valymo proceso grynumą ir efektyvumą.