Sic danga ald jautrininkas

IT puslaidininkisSic danga ald jautrininkasvaidina gyvybiškai svarbų vaidmenį atominio sluoksnio nusėdime (Ald) procesas. Tikslus temperatūros kontrolė, vienodas dujų pasiskirstymas, didelis cheminis atsparumas ir puikus šilumos laidumas užtikrina plėvelės nusodinimo proceso vienodumą ir aukštą kokybę. Jei norite sužinoti daugiau, galite nedelsdami pasikonsultuoti su mumis ir mes jums atsakysime laiku!

Tikslus temperatūros valdymas:

SiC danga ALD jautruojtojas paprastai turi aukšto tikslumo temperatūros valdymo sistemą. Jis gali išlaikyti vienodą temperatūros aplinką per visą nusėdimo procesą, o tai yra labai svarbi siekiant užtikrinti plėvelės vienodumą ir kokybę.

Vienodas dujų paskirstymas:

Optimizuotas SIC dangos ALD suvokimo konstrukcija užtikrina vienodą dujų pasiskirstymą ALD nusėdimo proceso metu. Jos struktūra paprastai apima daugybę besisukančių ar judančių dalių, kad būtų skatinamas vienodas reaktyviųjų dujų padengimas per visą vaflių paviršių.

Didelis cheminis atsparumas:

Kadangi ALD procesas apima įvairias chemines dujas, SiC danga ALD jautrininkas paprastai gaminamas iš korozijai atsparių medžiagų (tokių kaip platina, keramika ar didelio grynumo kvarcas), kad būtų galima atsispirti cheminių dujų erozijai ir aukštos temperatūros aplinkos įtakai.

Puikus šilumos laidumas:

Siekiant efektyviai atlikti šilumą ir palaikyti stabilią nusėdimo temperatūrą, SiC dengimo ALD jautruose paprastai naudojamos didelės šilumos laidumo medžiagos. Tai padeda išvengti vietinio perkaitimo ir netolygaus nusėdimo.

Pagrindinės fizinės CVD SIC dangos savybės:

Gamybos parduotuvės:

Puslaidininkinio lustų „Epitaxy“ pramonės grandinės apžvalga：