Aukšto grynumo kvarco valtis

Didelio grynumo kvarco valtys yra tikslūs nešikliai, pagaminti iš ypač aukšto grynumo kvarco medžiagų (SiO₂ kiekis ≥ 99,99%), skirtas aukštos temperatūros, aukšto valymo procesams. Šis prietaisas yra būtinas tokiems procesams kaip atkaitinimas, difuzija, oksidacija ir cheminis garų nusėdimas (CVD) ir yra plačiai naudojamas puslaidininkiuose, fotoelektroje ir kitose srityse. Pagrindinis jo pranašumas yra pačios medžiagos fizinis ir cheminis stabilumas.

Ⅰ. Puikios fizinės „Veteksemicon“ aukšto grynumo kvarco valties savybės

Ⅱ. Pagrindinis aukšto grynumo kvarco valties naudojimas ir atitinkami produkto pranašumai

1. Puslaidininkių gamyba:

Konkretus naudojimas: Verštuko įrankiai vaflinių aukštos temperatūros difuzijos, oksidacijos, atkaitinimo ir CVD (cheminio garų nusėdimo) procesuose.

Produkto pranašumai:

● Itin maža tarša: „Veteksemicon“ 99,99% grynų vaflių valtys Venkite metalo jonų užteršimo ir užtikrinkite lusto elektrinį efektyvumą.

● Tikslus dydis: „Quartz“ vaflinės valties lygumas yra ± 0,05 mm, užtikrinant vienodą vaflio kaitinimą (pvz., 12 colių vaflių valtį).

● Ilgas gyvenimas: Remiantis faktiniais mūsų užfiksuotais gamybos duomenimis, mūsų gaminami kvarco vaflių valtys gali būti nuolat naudojamos daugiau nei 1000 valandų 1200 ° C temperatūroje, labai sumažinant pakeitimo dažnį (palyginti su įprastomis kvarco valtimis, gyvybė padidėja 3 kartus).

2. Fotoelektros pramonė

Konkretus naudojimas: Fotoelektrinės pramonės gamybos srityje didelio grynumo kvarco valtys paprastai naudojamos silicio plokštelėms silicio plokštelėms fosforo difuzijoje PERC ląstelėse ir „Topcon“ ląstelių boro difuzijos procesą.

Našumo pranašumai:

● Didelės apkrovos dizainas: Viena valtis, kurią mes gaminame, gali nešti 200 ~ 300 silicio vaflių (storio 160 ~ 180 μm), labai pagerindamas vaflių gamybos pajėgumą per laiko vienetą.

● Greitas temperatūros kilimas ir kritimas: Ypač žemas šiluminio išsiplėtimo koeficientas (0,55 × 10⁻⁶/° C (20 ~ 1000 ° C), beveik nulis išsiplėtimo) palaiko 10% ~ 15% proceso ciklo sumažėjimą.

● Anti-PID efektas: Noatrio jonų nusodinimo metu silicio plokštelių apkrovos proceso metu sumažėja foto sukelto skilimo rizika.

Ⅲ. „Quartz“ valčių pakavimo specifikacijos

„Veteksemicon Quartz“ valtyse naudos daugiasluoksnę tankią pakuotę, kad būtų užtikrintas produkto vientisumas laikant ir gabenant.

Tuo pačiu metu „Veteksemincon“ palaiko pritaikytą išplėstinį proceso dizainą, pavyzdžiui, nestandartinį dydį (paklaida ± 0,1 mm), kelių sluoksnių sukravimo dizainą (iki 5 sluoksnių) ir aukštai temperatūrai atspari plėvelės danga (pvz., SiC danga). Sveiki atvykę į tolesnes konsultacijas.