Kas yra PECVD grafito valtis?

Ⅰ. Kokia yra PECVD grafito valties medžiaga?

Pagrindinė medžiagaPECVD grafito valtis(Plazmos patobulintas cheminio garų nusėdimo grafito valtis) pagamintas iš didelio grynumoizotropinė grafito medžiaga(Grynumas paprastai yra ≥99,999%) ir modifikuojamas specialiais procesais (tokiais kaip cheminio garų nusėdimo CVD arba paviršiaus danga). Didelio grynumo grafitas yra plačiai naudojamas PECVD sistemose dėl puikaus elektrinio laidumo ir didelio šilumos laidumo (80 ~ 150 W/M · k). TaiAukšto grynumo grafito medžiagaGali išlaikyti gerą struktūrinį stabilumą ir cheminį stabilumą aukštos temperatūros aplinkoje ir gali atsispirti korozijai iš reaktyvių dujų ir plazmos.

Ⅱ. Kokios yra grafito valties fizinės savybės?

PECVD grafito valčių fizinės savybės:

● Elektrinis laidumas: Izostatinis grafitas turi puikų elektrinį laidumą, kuris leidžia jam efektyviai valdyti elektrinę energiją ir skatinti plazmos generavimą ir priežiūrą PECVD proceso metu.

●  Šilumos laidumas: Aukštas grafito šilumos laidumas (apie 80 ~ 150 W/m · k) padeda išlaikyti stabilią temperatūros aplinką PECVD proceso metu ir užtikrinti vienodą plonų plėvelių nusėdimą.

●  Tankis: Komercinio polikristalinio grafito tankis svyruoja nuo 1,30 g/cm³ iki 1,88 g/cm³. Kuo didesnis tankis, tuo geresnės fizinės ir mechaninės savybės, kurios gali pagerinti produkto aptarnavimo tarnavimo laiką.

Ⅲ. Kokie yra PECVD grafito valties pranašumai, palyginti su įprastu grafito valtimi?

Palyginti su įprastais grafito valtimis, „PECVD“ grafito valtys turi šiuos pranašumus:

Ⅳ. Kodėl verta rinktis „Veteksemicon“ „PECVD“ grafito valtį?

Kaip mes visi žinome, „Veteksemicon“ yra pirmaujanti puslaidininkių dangos gaminių gamintojas ir tiekėjasgrafito produktaiKinijoje. MūsųPECVD grafito valtysdaugiausia naudojami puslaidininkių ir fotoelektrų pramonėje, ypač PECVD ir CVD procesuose.

Grafito valtys paprastai naudojamos kaip nešiotojai, skirti nešioti silicio vaflius ar kitas medžiagas, kad būtų užtikrintas saugus šių medžiagų tvarkymas ir gabenimas aukštos temperatūros ir plazmos aplinkoje. Pavyzdžiui, puslaidininkių gamybos procese „Veteksemicon“ PECVD grafito valtys yra skirtos plazmoje sustiprinti cheminio garų nusėdimo procesus. Grafito valtis vaidina silicio nitrido (SINₓ) pasyvavimo sluoksnių ir žemų dielektrinių konstantos (žemos K) plėvelės vaidmenį.

Fotoelektriniame lauke PECVD grafito valtys yra naudojamos silicio pagrindu pagamintų plonųjų filmų saulės elementų (pvz., Amorfinio silicio a-Si: H) ir PERC ląstelių pasyvavimo sluoksniams paruošti. „Veteksemicon“ „PECVD“ grafito valtis optimizuoja dangos procesą efektyviai išskiriant silicio vaflius ir sukeldamas švytėjimo išleidimą, kad būtų galima nusėdti vienodą dangos nusėdimą.

Dar svarbiau, kad „Veteksemicon“ gali teikti pritaikytus produktus ir technines paslaugas, taip pat kurti ir gaminti skirtingų specifikacijų grafito valčių produktus pagal faktinius proceso reikalavimus. Pasirinkti „Veteksemicon“ reiškia, kad puslaidininkių ir fotoelektrinių pramonės šakose stipriai pasirenkate pramonės lyderį. Mes nuoširdžiai tikimės tapti jūsų ilgalaikiu partneriu.