VETEK CNC precizinio apdirbimo dirbtuvės viduje: didelio grynumo puslaidininkinių komponentų pagrindo kūrimas

Įeikite į VeTek Semiconductor CNC precizinio apdirbimo dirbtuvę ir pamatysite tylią šiuolaikinės gamybos galią. Automatizuota įranga veikia tobulu ritmu. Didelės spartos velenai, valdomi tikslių CNC programų, veikia harmoningai, nes pjovimo įrankiai sluoksnis po sluoksnio paverčia šaltus neapdorotus ruošinius į didelio tikslumo komponentus. Kiekviena tolerancija yra griežtai kontroliuojama. Kiekviena detalė yra kruopščiai išnagrinėta. Skaitmeninio valdymo jėga sukuriame kiekvieną kvalifikuotą ruošinį, kuris vėliau tarnaus reikliausiuose puslaidininkių procesuose.

1. Tikslumas, užtikrinantis naujos kartos puslaidininkius

„VeTek Semiconductor“ CNC apdirbimas yra kur kas daugiau nei gamybos žingsnis – tai yra esminis mūsų pagrindinių produktų portfelio pagrindas. Nuo didelio grynumo grafito substratų iki sudėtingų geometrijų – mūsų apdirbimo galimybės tiesiogiai padeda gaminti:

•CVD padengtas silicio karbidu (SiC).grafito susceptoriai ir pakaitinimo žiedai

•CVD padengtas tantalo karbidu (TaC).nukreipimo žiedai, pusmėnulio dalys ir planetiniai susceptoriai

• Kietas SiCkomponentai ir fokusavimo žiedai

• Didelio grynumo grafito terminio lauko dalys, skirtos SiC epitaksijai, MOCVD ir kristalų auginimui

• Individualūs puslaidininkių proceso komponentai, suderinami su pagrindinėmis platformomis (Aixtron, Veeco, LPE, ASM, taikomosios medžiagos)

Šie komponentai reikalauja itin griežtų matmenų tolerancijos ir išskirtinio paviršiaus vientisumo. Mūsų CNC dirbtuvės užtikrina, kad kiekvienas grafito ruošinys būtų apdirbtas pagal tikslias specifikacijas, kol jis bus padengtas didelio grynumo CVD SiC arba TaC dangomis – dangomis, kurių priemaišų lygis yra mažesnis nei 5 ppm.

2. Mūsų konkurenciniai pranašumai

„VeTek Semiconductor“ išskiria mūsų visiškai integruota gamybos grandinė ir gilios techninės žinios:

Vieno langelio galimybė: Tikslus CNC apdirbimas → aukštos temperatūros valymas → CVD SiC/TaC danga → valymas → griežtas testavimas (GDMS, SIMS, SEM).

Pažangi įranga ir talpa:Daugiau nei 12 didelio tikslumo gamybos linijų ir du R&D centrai, įkurti buvusio Kinijos mokslų akademijos eksperto.

Itin aukštas grynumas ir patikimumas:Dangos ir medžiagos, sukurtos ekstremalioms temperatūroms, korozinei aplinkai ir nuliniam užterštumui dalelėmis epitaksijos ir MOCVD procesuose.

Pilnas pritaikymas:Mes apdirbame ir padengiame komponentus pagal tikslius jūsų brėžinius, užtikrindami puikų pritaikymą jūsų reaktorių platformoms.

Patikrinta kokybės sistema: ISO 9001 sertifikuoti procesai su griežta matmenų ir grynumo kontrole kiekviename etape.

3. Nuo tuščio iki itin svarbios sudedamosios dalies

Kiekvienas didelio našumo SiC dengtas susceptorius arba TaC padengtas žiedas prasideda čia – mūsų CNC precizinio apdirbimo dirbtuvėse. Šalto grafito ruošinys kruopščiai formuojamas vadovaujant pažangiu skaitmeniniu valdymu, o po to gryninant ir padengiant paverčiamas komponentu, kuris atlaikys tūkstančius proceso ciklų pažangiausiuose pasaulyje puslaidininkių gaminiuose.

„VeTek Semiconductor“ tikime, kad tikrasis tikslumas prasideda gerokai anksčiau nei dengimo kamera. Jis prasideda nuo pirmojo pjūvio.

Ištirkite visą mūsų asortimentąCVD SiC dangos, CVD TaC dangos, kieto SiC, ir didelio grynumo grafito tirpalaiVETEK.

Susisiekite su mumis šiandien ir aptarkite pasirinktinius apdirbimo ir dengimo sprendimus epitaksijos, MOCVD ar kristalų auginimo programoms.