TAC dangos subseras

„Vetek“ puslaidininkio TAC padengtas jautrumas irTAC padengtasžiedasDirbkite kartu LPE silicio karbido epitaksiniame augimo reaktoriuje:

● Aukštos temperatūros atsparumas: TheTAC dangaSceptieji turi puikų atsparumą aukštai temperatūrai, galinčią atlaikyti ekstremalią temperatūrą iki 1500 ° CLPE reaktorius. Tai užtikrina, kad įranga ir komponentai nenusileis ir nepažeistų ilgalaikio veikimo metu.

● Cheminis stabilumas: TAC dangos pastaba atlieka išskirtinai gerai ėsdinančioje silicio karbido augimo aplinkoje, efektyviai apsaugodamas reaktoriaus komponentus nuo korozinio cheminio priepuolio, taip pratęsdamas jų tarnavimo laiką.

● Šilumos stabilumas: TAC dangos suvokėjas turi gerą šiluminį stabilumą, palaikydamas paviršiaus morfologiją ir šiurkštumą, kad užtikrintų reaktoriaus temperatūros lauko vienodumą, o tai yra naudinga aukštos kokybės silicio karbido epitaksinių sluoksnių augimui.

● Antikontaminavimas: Lygus TAC padengtas paviršius ir aukštesnis TPD (užprogramuotas temperatūra desorbcija) gali sumažinti dalelių ir priemaišų kaupimąsi ir adsorbciją reaktoriuje, užkirsdamas kelią epitaksinių sluoksnių užterštumui.

Apibendrinant galima pasakyti, kad TAC dengtas jautrininkas ir žiedas vaidina kritinį apsauginį vaidmenį LPE silicio karbido epitaksinio augimo reaktoriuje, užtikrinant ilgalaikį stabilų įrangos veikimą ir aukštos kokybės epitaksinių sluoksnių augimą.