Produktai

Kaip patobulintas SIC sandarinimo dalių produktų gamintojas ir gamykla Kinijoje. „Vetek“ puslaidininkių sandarinimo dalis yra aukštos kokybės sandarinimo komponentas, plačiai naudojamas puslaidininkių apdorojime ir kitose ekstremaliose aukštos temperatūros ir aukšto slėgio procesuose. Sveiki atvykę į tolesnes konsultacijas.

„Vetek Semiconductor“ yra profesionalus aliuminio oksido keramikos vakuuminis chucko gamintojas ir gamykla Kinijoje. Aliuminio oksido keramikos vakuume chuck naudoja didelio grynumo aliuminio oksido keramiką, turinčią puikų atsparumą šilumai, cheminį atsparumą ir mechaninį stiprumą. Jis daugiausia naudojamas vafliams ir substratams pritvirtinti ir palaikyti. Tai yra aukštos kokybės puslaidininkių apdorojimo įranga. Sveiki atvykę į tolesnius klausimus.

Kaip profesionalus kietas kompozicinis anglies pluošto veltinis produktų gamintojas ir tiekėjas Kinijoje, „Vetek Semiconductor Hard Composite“ anglies pluoštas veltinis yra aukštos kokybės medžiaga, skirta pritaikyti aukštai temperatūrai, užtikrinant puikų atsparumą šilumai ir izoliacijos veikimą. Šis produktas yra plačiai naudojamas anglies anglies sudėtiniame PECVD padėkle, kad būtų užtikrintas stabilumas ir patikimumas ekstremaliomis sąlygomis. Sveiki atvykę į tolesnes konsultacijas.

Kaip profesionalus novatorius ir „Tantalum“ karbido dengtų žiedinių produktų lyderis Kinijoje, „Vetek“ puslaidininkių tantalum karbido dengtas žiedas vaidina nepakeičiamą vaidmenį SiC kristalų augime, pasižyminčiame puikiu atsparumu aukštai temperatūrai, atsparumui dėvėjimams ir puikiu šilumos laidumu. Sveiki atvykę į tolesnes konsultacijas.

Vetek Semiconductor silicio karbido vaflių vaflių vaflių vaflių vaflių vaflių gamintojas ir tiekėjas „Vetek“ gamintojas ir tiekėjas „Chuck Chuck“ vaidina nepakeičiamą vaidmenį epitaksiniame augimo procese su puikiu atsparumu aukštai temperatūrai, cheminei korozijai atsparumui ir šiluminio smūgio atsparumui. Sveiki atvykę į tolesnes konsultacijas.

Silicio karbido dušo galvutė turi puikų aukštos temperatūros toleranciją, cheminį stabilumą, šilumos laidumą ir gerą dujų pasiskirstymą, kuris gali pasiekti vienodą dujų pasiskirstymą ir pagerinti plėvelės kokybę. Todėl jis paprastai naudojamas aukštos temperatūros procesuose, tokiuose kaip cheminio garų nusėdimas (CVD) arba fizinio garų nusėdimo (PVD) procesai. Sveiki atvykę į mūsų tolesnes konsultacijas mums, „Vetek Semiconductor“.