Produktai

Pagrindiniame silicio karbido epitaksinio augimo procese Veteksemicon supranta, kad susceptoriaus veikimas tiesiogiai lemia epitaksinio sluoksnio kokybę ir gamybos efektyvumą. Mūsų didelio grynumo EPI susceptoriai, sukurti specialiai SiC laukui, naudoja specialų grafito substratą ir tankią CVD SiC dangą. Dėl puikaus šiluminio stabilumo, puikaus atsparumo korozijai ir ypač mažo dalelių susidarymo greičio jie užtikrina neprilygstamą storį ir dopingo vienodumą klientams net ir atšiaurioje aukštos temperatūros proceso aplinkoje. Veteksemicon pasirinkimas reiškia pažangių puslaidininkių gamybos procesų patikimumo ir našumo kertinį akmenį.

Veteksemicon SiC padengtas grafito susceptorius, skirtas ASM, yra pagrindinis nešiklio komponentas puslaidininkių epitaksiniuose procesuose. Šiame produkte naudojama mūsų patentuota pirolitinio silicio karbido dengimo technologija ir tikslūs apdirbimo procesai, užtikrinantys puikų našumą ir itin ilgą tarnavimo laiką aukštos temperatūros ir korozinių procesų aplinkoje. Mes puikiai suprantame griežtus epitaksinių procesų reikalavimus, susijusius su substrato grynumu, terminiu stabilumu ir nuoseklumu, ir esame įsipareigoję klientams teikti stabilius, patikimus sprendimus, kurie pagerintų bendrą įrangos veikimą.

Veteksemicon puslaidininkiniai kvarciniai tigliai yra pagrindinės eksploatacinės medžiagos Czochralski monokristalų augimo procese. Mūsų pagrindinis tikslas yra ypatingas grynumas ir puikus terminis stabilumas, todėl esame įsipareigoję klientams teikti aukštos kokybės produktus, pasižyminčius stabiliu veikimu ir puikiu atsparumu kristalizacijai esant aukštai temperatūrai ir aukštam slėgiui. Tai užtikrina krištolinių strypų kokybę iš šaltinio, o tai padeda puslaidininkinių silicio plokštelių gamybai pasiekti didesnį derlių ir didesnį ekonomiškumą.

Veteksemicon fokusavimo žiedas sukurtas specialiai reikliems puslaidininkių ėsdinimo įrenginiams, ypač SiC ėsdinimo programoms. Sumontuotas aplink elektrostatinį griebtuvą (ESC), arti plokštelės, jo pagrindinė funkcija yra optimizuoti elektromagnetinio lauko pasiskirstymą reakcijos kameroje, užtikrinant vienodą ir sutelktą plazmos veikimą visame plokštelės paviršiuje. Didelio našumo fokusavimo žiedas žymiai pagerina ėsdinimo greičio vienodumą ir sumažina krašto poveikį, tiesiogiai padidindamas produkto išeigą ir gamybos efektyvumą.

Veteksemicon Silicio karbido laikiklio plokštelė, skirta LED ėsdinimui, specialiai sukurta LED lustų gamybai, yra pagrindinė ėsdinimo proceso dalis. Pagaminta iš tiksliai sukepinto didelio grynumo silicio karbido, jis pasižymi išskirtiniu cheminiu atsparumu ir matmenų stabilumu aukštoje temperatūroje, efektyviai atsparus stiprių rūgščių, bazių ir plazmos korozijai. Mažos užterštumo savybės užtikrina didelį LED epitaksinių plokštelių derlių, o ilgaamžiškumas, gerokai didesnis nei tradicinių medžiagų, padeda klientams sumažinti bendras eksploatavimo išlaidas, todėl tai yra patikimas pasirinkimas norint pagerinti ėsdinimo proceso efektyvumą ir nuoseklumą.

Veteksemicon grafitinė valtis, skirta PECVD, yra tiksliai apdirbta iš didelio grynumo grafito ir sukurta specialiai plazmos patobulintų cheminių garų nusodinimo procesams. Pasitelkę savo gilų supratimą apie puslaidininkių šiluminio lauko medžiagas ir tikslaus apdirbimo galimybes, siūlome išskirtinio šiluminio stabilumo, puikaus laidumo ir ilgaamžiškumo pasižyminčius grafito laivus. Šios valtys yra sukurtos taip, kad būtų užtikrintas labai vienodas plonos plėvelės nusodinimas ant kiekvienos plokštelės sudėtingoje PECVD proceso aplinkoje, pagerinant proceso išeigą ir produktyvumą.