Produktai

Veteksemicon SiC padengta epitaksinio reaktoriaus kamera yra pagrindinis komponentas, skirtas sudėtingiems puslaidininkių epitaksinio augimo procesams. Naudojant pažangų cheminį nusodinimą iš garų (CVD), šis produktas sudaro tankią, labai gryną SiC dangą ant didelio stiprumo grafito pagrindo, todėl užtikrina puikų stabilumą aukštoje temperatūroje ir atsparumą korozijai. Jis veiksmingai atsparus koroziniam reaguojančių dujų poveikiui aukštos temperatūros proceso aplinkoje, žymiai sumažina užterštumą kietosiomis dalelėmis, užtikrina pastovią epitaksinės medžiagos kokybę ir didelį derlių bei žymiai pailgina reakcijos kameros priežiūros ciklą ir tarnavimo laiką. Tai pagrindinis pasirinkimas siekiant pagerinti plataus dažnių juostos puslaidininkių, tokių kaip SiC ir GaN, gamybos efektyvumą ir patikimumą.

Veteksemicon Silicon Cassette Boat yra tiksliai sukonstruotas plokštelių laikiklis, sukurtas specialiai aukštos temperatūros puslaidininkinėse krosnyse, įskaitant oksidaciją, difuziją, įvedimą ir atkaitinimą. Pagaminta iš ypač didelio grynumo silicio ir baigta pagal pažangius užterštumo kontrolės standartus, ji suteikia termiškai stabilią, chemiškai inertinę platformą, kuri labai atitinka pačių silicio plokštelių savybes. Šis išlyginimas sumažina šiluminį įtampą, sumažina slydimą ir defektų susidarymą bei užtikrina išskirtinai tolygų šilumos paskirstymą visoje partijoje

Pagrindiniame silicio karbido epitaksinio augimo procese Veteksemicon supranta, kad susceptoriaus veikimas tiesiogiai lemia epitaksinio sluoksnio kokybę ir gamybos efektyvumą. Mūsų didelio grynumo EPI susceptoriai, sukurti specialiai SiC laukui, naudoja specialų grafito substratą ir tankią CVD SiC dangą. Dėl puikaus šiluminio stabilumo, puikaus atsparumo korozijai ir ypač mažo dalelių susidarymo greičio jie užtikrina neprilygstamą storį ir dopingo vienodumą klientams net ir atšiaurioje aukštos temperatūros proceso aplinkoje. Veteksemicon pasirinkimas reiškia pažangių puslaidininkių gamybos procesų patikimumo ir našumo kertinį akmenį.

Veteksemicon SiC padengtas grafito susceptorius, skirtas ASM, yra pagrindinis nešiklio komponentas puslaidininkių epitaksiniuose procesuose. Šiame produkte naudojama mūsų patentuota pirolitinio silicio karbido dengimo technologija ir tikslūs apdirbimo procesai, užtikrinantys puikų našumą ir itin ilgą tarnavimo laiką aukštos temperatūros ir korozinių procesų aplinkoje. Mes puikiai suprantame griežtus epitaksinių procesų reikalavimus, susijusius su substrato grynumu, terminiu stabilumu ir nuoseklumu, ir esame įsipareigoję klientams teikti stabilius, patikimus sprendimus, kurie pagerintų bendrą įrangos veikimą.

Veteksemicon puslaidininkiniai kvarciniai tigliai yra pagrindinės eksploatacinės medžiagos Czochralski monokristalų augimo procese. Mūsų pagrindinis tikslas yra ypatingas grynumas ir puikus terminis stabilumas, todėl esame įsipareigoję klientams teikti aukštos kokybės produktus, pasižyminčius stabiliu veikimu ir puikiu atsparumu kristalizacijai esant aukštai temperatūrai ir aukštam slėgiui. Tai užtikrina krištolinių strypų kokybę iš šaltinio, o tai padeda puslaidininkinių silicio plokštelių gamybai pasiekti didesnį derlių ir didesnį ekonomiškumą.

Veteksemicon fokusavimo žiedas sukurtas specialiai reikliems puslaidininkių ėsdinimo įrenginiams, ypač SiC ėsdinimo programoms. Sumontuotas aplink elektrostatinį griebtuvą (ESC), arti plokštelės, jo pagrindinė funkcija yra optimizuoti elektromagnetinio lauko pasiskirstymą reakcijos kameroje, užtikrinant vienodą ir sutelktą plazmos veikimą visame plokštelės paviršiuje. Didelio našumo fokusavimo žiedas žymiai pagerina ėsdinimo greičio vienodumą ir sumažina krašto poveikį, tiesiogiai padidindamas produkto išeigą ir gamybos efektyvumą.