Produktai

„Veteksemicon“ teikia aukštos kokybės SIC ICP ėsdinimo plokšteles, skirtas ICP ėsdinimo programoms puslaidininkių pramonėje. Jo unikalios medžiagos savybės leidžia gerai veikti aukštoje temperatūroje, aukšto slėgio ir cheminės korozijos aplinkoje, užtikrinant puikų našumą ir ilgalaikį stabilumą įvairiuose ėsdinimo procesuose.

„VEKEK“ puslaidininkio grafito šildymo įrenginys yra didelio našumo pramoninio šildymo tirpalas, pagamintas iš didelio grynumo grafito medžiagos, kuris gali suteikti tikslų ir efektyvų šildymo efektą. Grafito šildymo blokas yra plačiai naudojamas puslaidininkiuose, elektronikoje, keramikoje ir kituose laukuose. Sveiki atvykę į tolesnį tyrimą.

„Vetek Semiconductor“, kaip vienas iš pirmaujančių TAC dangos produktų tiekėjų Kinijoje, gali suteikti klientams aukštos kokybės TAC dangos pritaikytas dalis. TAC padengtas žiedas, skirtas SiC vieno kristalo PVT augimui, yra vienas iš išskirtinių ir brandiausių „Vetek“ puslaidininkių produktų. Tai vaidina svarbų vaidmenį auginant SIC kristalų procesą PVT ir gali padėti klientams auginti aukštos kokybės SiC kristalus. Laukiu jūsų užklausos.

SIC padengtas giluminio UV LED 2 -ojo stoties, skirtas MOCVD procesui, siekiant palaikyti efektyvų ir stabilų giliųjų UV LED epitaksinio sluoksnio augimą. „Vetek Semiconductor“ yra pirmaujanti SIC dengto giliųjų UV LED 2 -ojo LED recepto gamintojas ir tiekėjas Kinijoje. Mes turime turtingą patirtį ir užmezgėme ilgalaikius bendradarbiavimo ryšius su daugybe LED epitaksinių gamintojų. Mes esame geriausi LEDS „Streceptor“ produktų gamintojai. Po daugelio metų patikrinimo mūsų produktų gyvenimo trukmė yra lygiaverčiai aukščiausiems tarptautiniams gamintojams. Laukiu jūsų užklausos.

„Vetek Semiconductor“ LED epitaksijos suvokėjas yra skirtas mėlynai ir žaliai LED epitaksinei gamybai. Jis sujungia silicio karbido dangą ir SGL grafitą ir turi didelį kietumą, žemą šiurkštumą, gerą šiluminį stabilumą ir puikų cheminį stabilumą. „LED Epitaxy“ jautrumas yra vienas iš geriausių „Vetek Semiconductor“ produktų. Mes laukiame jūsų užklausos.

Didelio grynumo CVD SiC žaliava, kurią paruošė CVD, yra geriausia šaltinio medžiaga silicio karbido kristalų augimui fizinio garų pernešime. Didelio grynumo CVD SiC žaliavos tankis, kurį tiekia „Vetek“ puslaidininkis, yra didesnis nei mažų dalelių, susidariusių spontaniškai deginant Si ir C turinčias dujas, ir tam nereikia specialios sukepinimo krosnies, ir jos garinimo greitis yra beveik pastovus. Jis gali augti ypač aukštos kokybės SiC pavienius kristalus. Laukiu jūsų užklausos.