Kuo skiriasi CVD TAC ir sukepintas TAC?

1. Kas yra tantalo karbidas?

Tantalum karbidas (TAC) yra dvejetainis junginys, sudarytas iš tantalo ir anglies su empirine formule TACX, kur x paprastai skiriasi nuo 0,4 iki 1. Jie yra labai kieti, trapūs metaliniai laidžios ugniai atsparios keraminės medžiagos. Jie yra rudos pilkos spalvos milteliai, paprastai sukepinami. Kaip svarbi metalinė keraminė medžiaga, tantalum karbidas naudojamas komerciškai pjovimo įrankiams ir kartais pridedamas prie volframo karbido lydinių.

1 paveikslas. Tantalum karbido žaliavos

Tantalo karbido keramika yra keramika, kurioje yra septynios tantalum karbido kristalinės fazės. Cheminė formulė yra TAC, į veidą orientuota kubinė grotelė.

2 paveikslas.Tantalo karbidas - Vikipedija

Teorinis tankis yra 1,44, lydymosi temperatūra yra 3730-3830 ℃, šiluminio išsiplėtimo koeficientas yra 8,3 × 10-6, elastinis modulis yra 291GPa, šiluminis laidumas yra 0,22J/cm · s · c, o viršutinės tantalum karbido tirpimo taškas yra maždaug 3880 ℃, atsižvelgiant į grynumo ir matavimo sąlygas. Ši vertė yra didžiausia tarp dvejetainių junginių.

3 paveikslas.Tantalum karbido cheminis garų nusėdimas tabr5 ir ndash

2. Kiek stiprus yra tantalum karbidas?

Išbandžius „Vickers“ kietumą, lūžio kietumą ir santykinį mėginių serijos tankį, galima nustatyti, kad TAC turi geriausias mechanines savybes esant 5,5 GPa ir 1300 ℃. Santykinis TAC tankis, lūžio tvirtumas ir Vickers kietumas yra atitinkamai 97,7%, 7,4MPAM1/2 ir 21,0GPA.

Tantalo karbidas taip pat vadinamas tantalum karbido keramiku, kuris yra savotiška keraminė medžiaga plačia prasme;Tantalum karbido paruošimo būdai apimaCVDmetodas, sukepinimo metodasir tt. Šiuo metu CVD metodas dažniau naudojamas puslaidininkiuose, turint didelį grynumą ir dideles išlaidas.

3. Palyginimas tarp sukepinto tantalo karbido ir CVD tantalum karbido

Puslaidininkių apdorojimo technologijoje sukepinto tantalum karbido ir cheminio garų nusėdimo (CVD) tantalum karbido yra du įprasti tantalo karbido paruošimo metodai, kurie turi reikšmingų skirtumų paruošimo procese, mikrostruktūroje, našume ir taikyme.

3.1 Paruošimo procesas

Sukepintas tantalo karbidas: Tantalo karbido milteliai yra sukepinami esant aukštai temperatūrai ir aukštai slėgiui, kad susidarytų forma. Šis procesas apima tankinimą miltelių, grūdų augimą ir priemaišų pašalinimą.

CVD tantalum karbidas: Tantalum karbido dujinis pirmtakas naudojamas chemiškai reaguoti ant šildomo substrato paviršiaus, o tantalo karbido plėvelė nusodina sluoksnį. CVD procesas turi gerą plėvelės storio valdymo galimybes ir sudėties vienodumą.

3.2 Mikrostruktūra

Sukepintas tantalo karbidas: Paprastai tai yra polikristalinė struktūra, turinti didelį grūdų dydį ir poras. Jo mikrostruktūrai įtakos turi tokios veiksniai kaip sukepinimo temperatūra, slėgis ir miltelių charakteristikos.

CVD tantalum karbidas: Paprastai tai yra tanki polikristalinė plėvelė, turinti mažą grūdų dydį ir gali pasiekti labai orientuotą augimą. Filmo mikrostruktūrai turi įtakos veiksniai, tokie kaip nusėdimo temperatūra, dujų slėgis ir dujų fazės sudėtis.

3.3 Veiklos skirtumai

4 paveikslas. Veiklos skirtumai tarp sukepinto TAC ir CVD TAC

3.4 Programos

Sukepintas tantalo karbidas: Dėl didelio stiprumo, didelio kietumo ir aukštos temperatūros atsparumo jis plačiai naudojamas pjovimo įrankiams, dilimams atsparioms dalims, aukštos temperatūros konstrukcinėms medžiagoms ir kitiems laukams. Pavyzdžiui, sukepintam tantalo karbidui galima naudoti pjovimo įrankiams, tokiems kaip grąžtai ir frezavimo pjaustyklai, siekiant pagerinti apdorojimo efektyvumą ir paviršiaus kokybę.

CVD tantalum karbidas: Dėl savo plonų plėvelės savybių, gero sukibimo ir vienodumo jis plačiai naudojamas elektroniniuose prietaisuose, dangos medžiagose, katalizatoriuose ir kituose laukuose. Pavyzdžiui, CVD tantalum karbidas gali būti naudojamas kaip sujungtos integruotos grandinės, susidėvėjimui atsparios dangos ir katalizatorių laikikliai.

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------ "

„Vetek“ puslaidininkis, kaip „Tantalum“ karbido dangos gamintojas, tiekėjas ir gamykla, yra pagrindinis „Tantalum“ karbido dangos medžiagų gamintojas puslaidininkių pramonei.

Mūsų pagrindiniai produktai yraCVD tantalum karbido padengtos dalys, sukepintos TAC padengtos dalys, skirtos SiC kristalų augimui ar puslaidininkių epitaksijos procesams. Pagrindiniai mūsų produktai yra „Tantalum“ karbidas padengti kreipiamieji žiedai, TAC padengti kreipiamieji žiedai, TAC dengtos pusės mėnulio dalys, tantalum karbidas padengti besisukantys planetiniai diskai (AIXTRON G10), TAC dengtos tiriamieji tiriamieji; TAC padengti žiedai; TAC padengtas porėtas grafitas; Tantalo karbidas dengtas grafito jautrius; TAC padengti kreipiamieji žiedai; TAC tantalum karbido padengtos plokštės; TAC padengti vafliniai receptoriai; TAC padengti grafito dangteliai; TAC padengti blokai ir kt., Kai grynumas yra mažesnis nei 5ppm, kad atitiktų kliento reikalavimus.

5 paveikslas. „Vetek“ puslaidininkio karštai parduodami TAC dangos produktai

„Vetek Semiconductor“ yra įsipareigojęs tapti „Tantalum“ karbido dangos pramonės novatoriumi, vykdydamas nuolatinius iteracinių technologijų tyrimus ir plėtojant. 

Jei jus domina TAC produktai, nedvejodami susisiekite su mumis tiesiogiai.

Mob: +86-180 6922 0752

„WhatsApp“: +86 180 6922 0752

El. Paštas: anny@veteksemi.com