Naujienos

Naujienos

Džiaugiamės galėdami pasidalinti su jumis savo darbo rezultatais, įmonės naujienomis, laiku papasakoti apie pokyčius ir personalo paskyrimo bei atleidimo sąlygas.
SiC dangos krašto pageltimo pašalinimas, siekiant padidinti CVD išeigą nuo 50 % iki 90 %05 2026-08

SiC dangos krašto pageltimo pašalinimas, siekiant padidinti CVD išeigą nuo 50 % iki 90 %

Nuodugni MOCVD epitaksijos grafito susceptorių silicio karbido dangos briaunų pageltimo ir lupimo priežasčių analizė. VeTek pašalino mikroįtempimą tiksliai valdydamas pradinį CVD nusodinimo greitį ir srauto lauką, padidindamas dangos išeigą nuo 50% iki 90% ir pailgindamas didelio grynumo grafito dalių tarnavimo laiką.
Kaip išspręsti didelius skirtumus tarp kišenės į kišenę kelių kišenių silicio epitaksijos grafito receptoriuose?03 2026-08

Kaip išspręsti didelius skirtumus tarp kišenės į kišenę kelių kišenių silicio epitaksijos grafito receptoriuose?

Išspręsdamas 1,4 % storio skirtumus tarp kišenės į kišenę kelių kišenių silicio epitaksinio grafito susceptoriuose, VeTek Semi pagerino suskeptoriaus plokštumą iki <0,08 mm ir sumažino svyravimą iki 0,69 % naudodama CVD srauto lauko modeliavimą ir itin tikslią SiC dangą, padidindama plokštelių išeigą.
MOCVD SiC padengto grafito susceptoriaus įtrūkimo analizė ir terminio įtempio optimizavimo atvejo tyrimas30 2026-07

MOCVD SiC padengto grafito susceptoriaus įtrūkimo analizė ir terminio įtempio optimizavimo atvejo tyrimas

Sužinokite, kaip Vetek pašalino radialinį įtrūkimą didelio dydžio MOCVD SiC padengtuose grafito susceptoriuose. Struktūrinio įtempių buferio pertvarkymas ir CTE suderinimas padidino tarnavimo laiką 300%+.
Nuo 4 colių iki 8 colių: SiC puslaidininkių augimo dešimtmetis25 2026-07

Nuo 4 colių iki 8 colių: SiC puslaidininkių augimo dešimtmetis

Dešimtmetis SiC evoliucijos – nuo ​​ankstyvų 4 colių komercializavimo iššūkių iki šiandieninio 8 colių plokštelių perėjimo. Sužinokite, kaip CVD SiC dangos, Solid SiC ir TaC medžiagos užtikrina patikimą puslaidininkių gamybą.
Kodėl SiC padengti grafito susceptoriai yra būtini puslaidininkinei epitaksijai17 2026-07

Kodėl SiC padengti grafito susceptoriai yra būtini puslaidininkinei epitaksijai

Sužinokite, kaip CVD SiC padengti grafito susceptoriai pagerina epitaksinį augimą pagerindami šiluminį vienodumą, sumažindami užterštumą ir pailgindami SiC, GaN, LED ir silicio puslaidininkių gamybos komponentų naudojimo laiką.
Kodėl TaC dengti grafito šildytuvai tampa „GaN MOCVD Epitaxy“ ateitimi10 2026-07

Kodėl TaC dengti grafito šildytuvai tampa „GaN MOCVD Epitaxy“ ateitimi

Sužinokite, kaip TaC dengti grafito šildytuvai pagerina temperatūros vienodumą, sumažina energijos sąnaudas ir prailgina GaN MOCVD epitaksijos tarnavimo laiką, palyginti su įprastais pBN dengtais šildytuvais.
Kaip TaC danga pagerina SiC kristalų augimą naudojant PVT03 2026-07

Kaip TaC danga pagerina SiC kristalų augimą naudojant PVT

Sužinokite, kaip CVD TaC danga pagerina SiC kristalų augimą PVT krosnyse, sumažindama anglies užterštumą, apsaugodama grafito komponentus, prailgindama tarnavimo laiką ir pagerindama pažangiosios puslaidininkių gamybos kristalų kokybę.
Kodėl TaC danga tampa tinkamiausiu puslaidininkinių grafito komponentų pasirinkimu26 2026-06

Kodėl TaC danga tampa tinkamiausiu puslaidininkinių grafito komponentų pasirinkimu

Sužinokite, kodėl CVD TaC danga tampa tinkamiausiu puslaidininkinio grafito komponentų apsauginiu sprendimu. Sužinokite apie jo pranašumus, pritaikymą SiC kristalų auginimui, GaN MOCVD ir plokštelių laikiklius bei kaip tai pagerina patvarumą, grynumą ir proceso stabilumą.
Pirolitine anglimi (PyC) dengti grafito žiedai: aukštesnės temperatūros puslaidininkių gamybos patikimumo didinimas17 2026-06

Pirolitine anglimi (PyC) dengti grafito žiedai: aukštesnės temperatūros puslaidininkių gamybos patikimumo didinimas

Sužinokite, kaip VETEK Pyrolytic Carbon (PyC) padengti grafito žiedai pagerina šiluminį stabilumą, sumažina užterštumą ir pailgina komponentų naudojimo laiką SiC kristalų augimo, epitaksijos, CVD ir aukštos temperatūros puslaidininkių procesuose.
Kodėl CVD TaC danga yra „aukštos temperatūros šarvai“ trečiosios kartos puslaidininkiuose21 2026-05

Kodėl CVD TaC danga yra „aukštos temperatūros šarvai“ trečiosios kartos puslaidininkiuose

Sužinokite, kaip CVD TaC danga pagerina SiC kristalų augimą ir puslaidininkių gamybą, turėdama itin aukštą šiluminį stabilumą, atsparumą korozijai, priemaišų slopinimą ir puikų našumą naudojant MOCVD ir epitaksiją.
„Aixtron G10“ komponentai: pagrindinės didelio našumo SiC epitaksijos dalys16 2026-05

„Aixtron G10“ komponentai: pagrindinės didelio našumo SiC epitaksijos dalys

Pažvelkite į pagrindinius „Aixtron G10“ komponentus, skirtus aukštos temperatūros SiC epitaksijos sistemoms. Aptariame CVD SiC dengtas grafito dalis, TaC dangos komponentus ir šiluminio lauko struktūras – ir kaip jie padeda užtikrinti proceso stabilumą, grynumo kontrolę ir plokštelių išeigą pažangioje puslaidininkių gamyboje.
Kas yra pusmėnulis LPE reakcijos kameroje?09 2026-05

Kas yra pusmėnulis LPE reakcijos kameroje?

Sužinokite, kas yra Halfmoon komponentas LPE reakcijos kameroje ir kaip jis palaiko šiluminį stabilumą, dujų srauto valdymą ir reaktoriaus struktūrą SiC epitaksijos sistemose. Ištirkite grafito medžiagas, CVD SiC dangą, TaC dangą ir šiuolaikines puslaidininkinių reaktorių technologijas.
„MicroLED“ našumo optimizavimas naudojant SiC substratus ir pažangias dangas25 2026-04

„MicroLED“ našumo optimizavimas naudojant SiC substratus ir pažangias dangas

Kovojate su „MicroLED“ išeiga? Sužinokite, kodėl pramonės lyderiai pereina prie SiC substratų ir TaC dengtų MOCVD komponentų, kad išspręstų šiluminį įtempį ir užterštumą dalelėmis. Sužinokite apie techninius CVD SiC pranašumus naujos kartos GaN ekranams
CVD SiC danga: procesas, privalumai ir pritaikymas24 2026-04

CVD SiC danga: procesas, privalumai ir pritaikymas

Išsiaiškinkite, kaip CVD SiC danga naudojama puslaidininkių procesuose, įskaitant jos struktūrą, veikimo charakteristikas ir tipinius pritaikymus, taip pat jos tinkamumą aukštoje temperatūroje.
Maksimalus gaminių išeiga: kodėl CVD kietas SiC yra geriausias pasirinkimas kritinėms kameros dalims18 2026-04

Maksimalus gaminių išeiga: kodėl CVD kietas SiC yra geriausias pasirinkimas kritinėms kameros dalims

Ar verta investuoti į CVD Solid SiC? Palyginkite monolitinio SiC ir tradicinių grafito dangų IG. Sužinokite, kaip didesnis atsparumas plazmai ir išplėstas MTBC sumažina plokštelių laužo skaičių ir ilgesnį įrangos veikimo laiką 12 colių HVM linijose.
CVD-SiC evoliucija nuo plonasluoksnių dangų iki birių medžiagų10 2026-04

CVD-SiC evoliucija nuo plonasluoksnių dangų iki birių medžiagų

Aukšto grynumo medžiagos yra būtinos puslaidininkių gamybai. Šie procesai apima didelį karštį ir ėsdinančias chemines medžiagas. CVD-SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) užtikrina reikiamą stabilumą ir stiprumą. Dabar tai yra pagrindinis pasirinkimas pažangioms įrangos dalims dėl didelio grynumo ir tankio.
X
Naudojame slapukus siekdami pasiūlyti geresnę naršymo patirtį, analizuoti svetainės srautą ir suasmeninti turinį. Naudodamiesi šia svetaine sutinkate su mūsų slapukų naudojimu. Privatumo politika
AtmestiPriimti